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キヤノンアネルバ株式会社
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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第1509位 16件
（
2015年：第741位 41件）
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第506位 54件
（2015年：第464位 55件）
（ランキング更新日：2025年6月25日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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キヤノンアネルバ株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5941215 | 真空処理装置 | 2016年 6月29日 | |
| 特許 5937297 | 金属窒化膜、該金属窒化膜を用いた半導体装置、および半導体装置の製造方法 | 2016年 6月22日 | |
| 特許 5934427 | スパッタリング装置 | 2016年 6月15日 | |
| 特許 5932033 | イオンビーム処理方法およびイオンビーム処理装置 | 2016年 6月 8日 | |
| 特許 5933029 | スパッタリング装置および基板処理装置 | 2016年 6月 8日 | |
| 特許 5922256 | 質量分析装置 | 2016年 5月24日 | |
| 特許 5922751 | イオンビームエッチング装置 | 2016年 5月24日 | |
| 特許 5922761 | スパッタ装置 | 2016年 5月24日 | |
| 特許 5922795 | スパッタリング装置および基板処理装置 | 2016年 5月24日 | |
| 特許 5898236 | 電力導入装置及び電力導入装置を用いた真空処理装置 | 2016年 4月 6日 | |
| 特許 5892783 | 基板支持装置及び基板搬送装置 | 2016年 3月23日 | |
| 特許 5894175 | 隔膜型圧力計 | 2016年 3月23日 | |
| 特許 5886426 | エピタキシャル膜形成方法、スパッタリング装置、半導体発光素子の製造方法、半導体発光素子、および照明装置 | 2016年 3月16日 | |
| 特許 5882502 | 磁気抵抗効果素子の製造方法 | 2016年 3月 9日 | |
| 特許 5877850 | 基板ホルダ装置および真空処理装置 | 2016年 3月 8日 |
54 件中 31-45 件を表示
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5941215 5937297 5934427 5932033 5933029 5922256 5922751 5922761 5922795 5898236 5892783 5894175 5886426 5882502 5877850
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