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キヤノンアネルバ株式会社
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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第1509位 16件
（
2015年：第741位 41件）
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第506位 54件
（2015年：第464位 55件）
（ランキング更新日：2025年6月25日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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キヤノンアネルバ株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5873251 | 基板トレイ及び該トレイを用いた基板処理装置 | 2016年 3月 1日 | |
| 特許 5873276 | 磁石ユニットおよびマグネトロンスパッタリング装置 | 2016年 3月 1日 | |
| 特許 5873557 | スパッタリング装置および磁石ユニット | 2016年 3月 1日 | |
| 特許 5869784 | 金属酸化物高誘電体エピタキシャル膜の製造方法、および基板処理装置 | 2016年 2月24日 | |
| 特許 5865483 | 締結部材および真空装置 | 2016年 2月17日 | |
| 特許 5860063 | 基板処理装置 | 2016年 2月16日 | |
| 特許 5848494 | 垂直磁化型ＭＴＪ素子の製造方法 | 2016年 1月27日 | |
| 特許 5841172 | スパッタリング装置 | 2016年 1月13日 | |
| 特許 5843602 | プラズマ処理装置 | 2016年 1月13日 |
54 件中 46-54 件を表示
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5873251 5873276 5873557 5869784 5865483 5860063 5848494 5841172 5843602
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