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(2015年:第539位 62件)
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(2015年:第376位 69件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 5901630 | メタライゼーション処理、混合物、および、電子デバイス | 2016年 4月13日 | |
特許 5902153 | プラズマ反応チャンバのための可動チャンバライナ、プラズマ反応チャンバおよび方法 | 2016年 4月13日 | |
特許 5896595 | 2層RF構造のウエハ保持体 | 2016年 3月30日 | |
特許 5896915 | プラズマチャンバで使用される上方電極から表面金属汚染を洗浄するための方法 | 2016年 3月30日 | |
特許 5888981 | プラズマ処理システムにおけるイオンエネルギ分布の制御 | 2016年 3月22日 | |
特許 5891300 | 誘導結合プラズマエッチングリアクタのためのガス分配シャワーヘッド | 2016年 3月22日 | |
特許 5883481 | プラズマ処理システムにおけるイオンエネルギ分布の制御 | 2016年 3月15日 | |
特許 5881954 | プラズマ発生装置 | 2016年 3月 9日 | |
特許 5879269 | 堆積後ウエハ洗浄配合物 | 2016年 3月 8日 | |
特許 5872291 | プラズマ処理システム及びプラズマ処理チャンバ内の圧力を制御する方法 | 2016年 3月 1日 | |
特許 5872474 | プラズマ処理システムおよび電流制御システム | 2016年 3月 1日 | |
特許 5868968 | 電子デバイスを製造する方法 | 2016年 2月24日 | |
特許 5855644 | ガス供給システムのためのコーティング方法 | 2016年 2月 9日 | |
特許 5850601 | その場ウエハー温度測定並びに制御 | 2016年 2月 3日 | |
特許 5844757 | エッチング・システム及びエッチング方法 | 2016年 1月20日 |
46 件中 31-45 件を表示
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5901630 5902153 5896595 5896915 5888981 5891300 5883481 5881954 5879269 5872291 5872474 5868968 5855644 5850601 5844757
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