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ラム　リサーチ　コーポレーション

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公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特許 5976875	プラズマ処理チャンバの下側電極アセンブリ	2016年 8月24日
特許 5974054	温度制御式ホットエッジリング組立体	2016年 8月23日
特許 5965641	プラズマ助長酸化を使用したパッシベーションを伴うシリコンエッチング方法及び装置	2016年 8月10日
特許 5955850	半導体処理のためのヒータゾーンを伴った加熱板、基板サポートアセンブリ、加熱板を作成する方法、加熱板の各ヒータゾーンを作成する方法、及び加熱板の層を製造するための方法	2016年 7月20日
特許 5950831	イオン発生と処理ガスの解離の独立制御を有するプラズマエッチングのためのシステム、方法、および装置	2016年 7月13日
特許 5946640	温度制御式ホットエッジリング組立体	2016年 7月 6日
特許 5933177	電源供給を局所化する分散型電源装置	2016年 6月 8日
特許 5925789	多重加熱器アレイのための故障検出の方法	2016年 5月25日
特許 5925897	半導体処理のためのダイオード平面ヒータゾーンを伴う加熱板、それを製造する方法、基板サポートアセンブリ、及び、半導体基板をプラズマ処理するための方法	2016年 5月25日
特許 5925943	ＣＤの均一性を向上させるための基板温度調整を行う方法	2016年 5月25日
特許 5921952	電極アッセンブリ	2016年 5月24日
特許 5922076	プラズマ処理装置	2016年 5月24日
特許 5913312	中性／イオンフラックスの制御のための半導体ウエハ処理装置、半導体ウエハ処理システム、及び、ガス分配ユニット	2016年 4月27日
特許 5913313	高周波（ＲＦ）パワーフィルタ及びＲＦパワーフィルタを備えるプラズマ処理システム	2016年 4月27日
特許 5905447	プラズマ処理システムにおける誘導コイルアセンブリ	2016年 4月20日

46 件中 16-30 件を表示

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5976875 5974054 5965641 5955850 5950831 5946640 5933177 5925789 5925897 5925943 5921952 5922076 5913312 5913313 5905447

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