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■ 2018年 出願公開件数ランキング 第577位 52件
(2017年:第490位 79件)
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(2017年:第896位 24件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 6349257 | ハイブリッドパルス化プラズマ処理システム | 2018年 6月27日 | |
特許 6338754 | 不活性ガスから生成される準安定ガスを使用する原子層エッチング | 2018年 6月 6日 | |
特許 6334189 | ウェハ保持装置上のメッキの検知 | 2018年 5月30日 | |
特許 6335458 | 損傷したエポキシを静電チャックから除去する方法 | 2018年 5月30日 | |
特許 6335538 | プラズマ処理室用のガス分配部材を製造する方法 | 2018年 5月30日 | |
特許 6335688 | コンダクタンス制御を有する化学蒸着装置 | 2018年 5月30日 | |
特許 6325448 | プラズマ処理システムにおける不活性物優勢パルス化 | 2018年 5月16日 | |
特許 6321937 | 剥離乾燥装置及び方法 | 2018年 5月 9日 | |
特許 6302000 | 静電チャックアセンブリ及びプラズマ処理装置 | 2018年 3月28日 | |
特許 6293497 | ウェハバイアスを決定するための方法およびプラズマシステム | 2018年 3月14日 | |
特許 6289860 | プラズマエッチングチャンバ用のTCCTマッチング回路 | 2018年 3月 7日 | |
特許 6279535 | プラズマ処理システムを制御するための方法および装置 | 2018年 2月14日 | |
特許 6279544 | プラズマ処理システムにおいてRF電流路を選択的に修正するための方法及び装置 | 2018年 2月14日 | |
特許 6276005 | 半導体基板支持体、及び、半導体基板をエッチングする方法 | 2018年 2月 7日 | |
特許 6276697 | 対称的なRF供給のための周囲RFフィードおよび対称RFリターン | 2018年 2月 7日 |
36 件中 16-30 件を表示
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6349257 6338754 6334189 6335458 6335538 6335688 6325448 6321937 6302000 6293497 6289860 6279535 6279544 6276005 6276697
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