特許ランキング - 出願人詳細情報 -

ラム　リサーチ　コーポレーション

※ ログインすれば出願人(ラム　リサーチ　コーポレーション)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2025年出願公開件数ランキング　　　第126位　262件（2024年：第178位　197件）

　■　2025年特許取得件数ランキング　　　第136位　215件（2024年：第216位　154件）

（ランキング更新日：2026年4月3日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2026年

ラム　リサーチ　コーポレーションの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特許 7792995	半導体ＲＦプラズマ処理のためのパルス内のＲＦパルス	2025年12月26日
特許 7793012	アーク発生を防止または抑制するための化学蒸着ツール	2025年12月26日
特許 7793023	基板処理システム用のチラー開閉コネクタ	2025年12月26日
特許 7791817	端部／中央部の不均一性を軽減するためにウエハの外周近傍に凹部を備えた半導体処理チャック	2025年12月24日
特許 7791924	高アスペクト比の誘電体エッチングを達成するための３つ以上の状態	2025年12月24日
特許 7789172	基板処理システム用の縮径キャリアリングハードウェア	2025年12月19日
特許 7788393	基板処理システムのプロセスモジュールバイアスアセンブリ用の摺動・枢動アセンブリ	2025年12月18日
特許 7788408	バブラを用いた濃度制御	2025年12月18日
特許 7787894	エッチングフロント金属触媒を用いる高アスペクト比メモリのプロファイル最適化	2025年12月17日
特許 7787928	誘電体における高アスペクト比フィーチャのプラズマエッチング化学物質	2025年12月17日
特許 7787253	ラジカルおよび前駆体ガスを下流チャンバに供給して遠隔プラズマ膜蒸着を可能にするための温度制御を備えた統合シャワーヘッド	2025年12月16日
特許 7785825	プラズマチャンバ内で使用するためのリング構造およびシステム	2025年12月15日
特許 7785132	半導体処理ツールにおけるＲＦ電流測定	2025年12月12日
特許 7781229	半導体処理における異常プラズマ事象の検出および軽減	2025年12月 5日
特許 7778898	ＲＦ電力損失を補償するためのシステムおよび方法	2025年12月 2日

215 件中 1-15 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

7792995 7793012 7793023 7791817 7791924 7789172 7788393 7788408 7787894 7787928 7787253 7785825 7785132 7781229 7778898

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。ラム　リサーチ　コーポレーションの知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2026年特許出願件数	2026年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数