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ラム　リサーチ　コーポレーション

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ラム　リサーチ　コーポレーションの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特表 2025-542159	静電チャック台座の処理	2025年12月25日
特開 2025-186503	プラズマ処理システム用の可動エッジリング	2025年12月23日
特開 2025-186424	プラズマシース安定化のための無線周波数パルス開始電力スパイクを制御するための方法およびシステム	2025年12月23日
特開 2025-186347	集積回路処理におけるウエハ反りの制御	2025年12月23日
特開 2025-185171	ウエハベベル／エッジ上の堆積を制御するためのキャリアリング設計	2025年12月18日
特表 2025-541154	フォトレジストプロセスの終点検出および追跡	2025年12月18日
特表 2025-541104	金属または半金属フッ化物のプロセス曝露コーティングを有する半導体処理チャンバ	2025年12月18日
特表 2025-540971	ガス分配シャワーヘッドからの流れを調整するための複合オリフィス入口ノズル	2025年12月17日
特表 2025-540815	パルスレーザー堆積ツールにおけるレーザー入射窓の粒子汚染を低減すること	2025年12月16日
特表 2025-539884	硫黄系の無酸素不動態化剤によるエッチング	2025年12月 9日
特表 2025-539772	半導体処理ツール用の載置後ウエハセンタリングシステム	2025年12月 9日
特開 2025-179105	調整可能なエッジシースシステムでの反射電力最小化	2025年12月 9日
特表 2025-539529	基板処理ツール用のシャワーヘッド	2025年12月 5日
特開 2025-176161	基板処理システムのための温度調節された基板支持体	2025年12月 3日
特開 2025-176130	機械的強度または寿命に影響を与えることのないプラズマ均一性のためのＣシュラウド改良	2025年12月 3日

267 件中 1-15 件を表示

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2025-542159 2025-186503 2025-186424 2025-186347 2025-185171 2025-541154 2025-541104 2025-540971 2025-540815 2025-539884 2025-539772 2025-179105 2025-539529 2025-176161 2025-176130

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