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■ 2020年 出願公開件数ランキング 第499位 66件
(2019年:第1534位 16件)
■ 2020年 特許取得件数ランキング 第614位 36件
(2019年:第656位 34件)
(ランキング更新日:2025年8月25日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 6749749 | 銅バリア膜をエッチングするための新規方法 | 2020年 9月 2日 | |
特許 6749764 | 非晶質炭素ハードマスク膜の炭素‐水素含有量を減少させるシステムおよび方法 | 2020年 9月 2日 | |
特許 6745310 | 完全浸漬された無空気の帰還流量制御弁を用いた気泡および発泡解消方法 | 2020年 8月26日 | |
特許 6742077 | フッ素非含有タングステンで高アスペクト比フィーチャを充填する方法 | 2020年 8月19日 | |
特許 6742720 | 酸化物層のエッチング方法及びエッチング装置 | 2020年 8月19日 | |
特許 6739940 | 埋め込み電極を伴うガス分配セラミック板 | 2020年 8月12日 | |
特許 6727780 | 腐食センサ保持器アセンブリ、ガスブロック、真空チャンバ、及び、腐食を予測する方法 | 2020年 7月22日 | |
特許 6710032 | ALDにより形成される窒化シリコン膜の表面形状内ウェットエッチング速度を均一に低下させるための方法及び装置 | 2020年 6月17日 | |
特許 6692598 | プラズマシステム及びフィルタを備えるシステム | 2020年 5月13日 | |
特許 6689565 | 硫黄ドープ炭素ハードマスク | 2020年 4月28日 | |
特許 6679222 | 反応性の分子パージガスを使用したRFプラズマベースの基板処理システムにおける欠陥制御及びDCバイアス安定性の向上 | 2020年 4月15日 | |
特許 6681953 | 金属シード層上の金属酸化物を還元するための方法および装置 | 2020年 4月15日 | |
特許 6676094 | プラズマ処理システムにおける不活性物優勢パルス化 | 2020年 4月 8日 | |
特許 6670576 | 均一なRF電力供給のための導電性ガスケットを含むESCアセンブリ | 2020年 3月25日 | |
特許 6671411 | ウェハ保持装置上のメッキの検知 | 2020年 3月25日 |
36 件中 16-30 件を表示
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6749749 6749764 6745310 6742077 6742720 6739940 6727780 6710032 6692598 6689565 6679222 6681953 6676094 6670576 6671411
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