特許ランキング - 出願人詳細情報 -

ラム　リサーチ　コーポレーション

※ ログインすれば出願人(ラム　リサーチ　コーポレーション)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2020年出願公開件数ランキング　　　第499位　66件（2019年：第1534位　16件）

　■　2020年特許取得件数ランキング　　　第614位　36件（2019年：第656位　34件）

（ランキング更新日：2024年11月22日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2021年 2022年 2023年 2024年

ラム　リサーチ　コーポレーションの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特許 6749749	銅バリア膜をエッチングするための新規方法	2020年 9月 2日
特許 6749764	非晶質炭素ハードマスク膜の炭素‐水素含有量を減少させるシステムおよび方法	2020年 9月 2日
特許 6745310	完全浸漬された無空気の帰還流量制御弁を用いた気泡および発泡解消方法	2020年 8月26日
特許 6742077	フッ素非含有タングステンで高アスペクト比フィーチャを充填する方法	2020年 8月19日
特許 6742720	酸化物層のエッチング方法及びエッチング装置	2020年 8月19日
特許 6739940	埋め込み電極を伴うガス分配セラミック板	2020年 8月12日
特許 6727780	腐食センサ保持器アセンブリ、ガスブロック、真空チャンバ、及び、腐食を予測する方法	2020年 7月22日
特許 6710032	ＡＬＤにより形成される窒化シリコン膜の表面形状内ウェットエッチング速度を均一に低下させるための方法及び装置	2020年 6月17日
特許 6692598	プラズマシステム及びフィルタを備えるシステム	2020年 5月13日
特許 6689565	硫黄ドープ炭素ハードマスク	2020年 4月28日
特許 6679222	反応性の分子パージガスを使用したＲＦプラズマベースの基板処理システムにおける欠陥制御及びＤＣバイアス安定性の向上	2020年 4月15日
特許 6681953	金属シード層上の金属酸化物を還元するための方法および装置	2020年 4月15日
特許 6676094	プラズマ処理システムにおける不活性物優勢パルス化	2020年 4月 8日
特許 6670576	均一なＲＦ電力供給のための導電性ガスケットを含むＥＳＣアセンブリ	2020年 3月25日
特許 6671411	ウェハ保持装置上のメッキの検知	2020年 3月25日

36 件中 16-30 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

6749749 6749764 6745310 6742077 6742720 6739940 6727780 6710032 6692598 6689565 6679222 6681953 6676094 6670576 6671411

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。ラム　リサーチ　コーポレーションの知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数