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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第79位 375件
(
2023年:第79位 394件)
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第78位 380件
(
2023年:第71位 433件)
(ランキング更新日:2025年10月31日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7444808 | 化粧料 | 2024年 3月 6日 | |
| 特許 7444821 | 生体電極組成物、生体電極、生体電極の製造方法、及び珪素材料粒子 | 2024年 3月 6日 | |
| 特許 7444824 | 生体電極組成物、生体電極、生体電極の製造方法、及び珪素材料粒子 | 2024年 3月 6日 | |
| 特許 7442947 | ファラデー回転子モジュール及び光アイソレータ | 2024年 3月 5日 | |
| 特許 7442291 | ペリクルとその専用ペリクルケースからなるアセンブリ | 2024年 3月 4日 | |
| 特許 7439940 | 硬化性シリコーンゲル組成物及びシリコーンゲル硬化物 | 2024年 2月28日 | |
| 特許 7437711 | 半導体発光装置と成長基板の間の角部での分離層の除去方法 | 2024年 2月26日 | |
| 特許 7435418 | 有機ケイ素化合物、その加水分解縮合物およびコーティング組成物 | 2024年 2月21日 | |
| 特許 7435618 | 熱伝導性シリコーンポッティング組成物およびその硬化物 | 2024年 2月21日 | |
| 特許 7436175 | 硬化性組成物、その硬化物、及び半導体装置 | 2024年 2月21日 | |
| 特許 7436333 | 成膜方法及び成膜装置 | 2024年 2月21日 | |
| 特許 7432904 | 酸化ガリウム半導体膜及び原料溶液 | 2024年 2月19日 | |
| 特許 7431696 | ポジ型感光性樹脂組成物、ポジ型感光性ドライフィルム、ポジ型感光性ドライフィルムの製造方法、パターン形成方法、硬化被膜形成方法、層間絶縁膜、表面保護膜、及び電子部品 | 2024年 2月15日 | |
| 特許 7429171 | ファラデー回転子及び光アイソレータの製造方法 | 2024年 2月 7日 | |
| 特許 7428632 | 多孔質ガラス母材の製造方法及び製造装置 | 2024年 2月 6日 |
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7444808 7444821 7444824 7442947 7442291 7439940 7437711 7435418 7435618 7436175 7436333 7432904 7431696 7429171 7428632
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