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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第79位 375件
(2023年:第79位 394件)
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第78位 380件
(2023年:第71位 433件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 7451060 | 熱硬化性マレイミド樹脂組成物の硬化物からなるフィルム、及びそれを有するフレキシブルプリント基板 | 2024年 3月18日 | |
特許 7451442 | EUV用ペリクルフレームの通気構造、EUV用ペリクル、EUV用ペリクル付露光原版、露光方法及び半導体の製造方法 | 2024年 3月18日 | |
特許 7450697 | 樹脂組成物、樹脂フィルム、半導体積層体、半導体積層体の製造方法及び半導体装置の製造方法 | 2024年 3月15日 | |
特許 7449842 | 多孔質ガラス母材の製造方法及び製造装置 | 2024年 3月14日 | |
特許 7450023 | 多孔質ガラス母材製造装置、多孔質ガラス母材の製造方法、および光ファイバ用ガラス母材の製造方法 | 2024年 3月14日 | |
特許 7448916 | 個体認証方法 | 2024年 3月13日 | |
特許 7448004 | ペリクルフレーム、ペリクル、ペリクル付露光原版、露光方法、半導体の製造方法及び液晶表示板の製造方法 | 2024年 3月12日 | |
特許 7446693 | 付加硬化型シリコーン組成物 | 2024年 3月11日 | |
特許 7446215 | 硬化型コーティング組成物、及び物品 | 2024年 3月 8日 | |
特許 7446250 | 硬化性シリコーン組成物及び接着剤 | 2024年 3月 8日 | |
特許 7445583 | レジスト下層膜材料、パターン形成方法、及びレジスト下層膜形成方法 | 2024年 3月 7日 | |
特許 7445724 | 低誘電材料用ガラスクロス、プリプレグ、及びプリント配線基板 | 2024年 3月 7日 | |
特許 7444049 | アルコール化合物、化学増幅ネガ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 | 2024年 3月 6日 | |
特許 7444234 | 硬化性フルオロポリエーテル系接着剤組成物及び光学部品 | 2024年 3月 6日 | |
特許 7444282 | コーティング剤組成物、該組成物を含む表面処理剤、及び該表面処理剤で表面処理された物品 | 2024年 3月 6日 |
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7451060 7451442 7450697 7449842 7450023 7448916 7448004 7446693 7446215 7446250 7445583 7445724 7444049 7444234 7444282
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