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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第63位 461件 (2023年:第72位 424件)
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第89位 341件 (2023年:第91位 347件)
(ランキング更新日:2025年2月3日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2024-92671 | 基板処理装置、基板処理システム及び基板処理方法 | 2024年 7月 8日 | |
特開 2024-90624 | 処理液供給装置および基板処理装置 | 2024年 7月 4日 | |
特開 2024-91022 | 基板処理装置および基板処理方法 | 2024年 7月 4日 | |
特開 2024-91091 | 基板洗浄装置および基板洗浄方法 | 2024年 7月 4日 | |
特開 2024-91092 | 基板洗浄装置および基板洗浄方法 | 2024年 7月 4日 | |
特開 2024-91093 | 基板処理装置および基板処理方法 | 2024年 7月 4日 | |
特開 2024-91251 | 基板処理方法 | 2024年 7月 4日 | |
特開 2024-88931 | 減圧乾燥装置および減圧乾燥方法 | 2024年 7月 3日 | |
特開 2024-89063 | 減圧乾燥装置 | 2024年 7月 3日 | |
特開 2024-89220 | 基板処理方法及び基板処理装置 | 2024年 7月 3日 | |
特開 2024-89558 | 半導体装置の製造方法及び半導体製造装置 | 2024年 7月 3日 | |
特開 2024-87130 | 露光装置、露光方法、および機械学習モデルの作成方法 | 2024年 7月 1日 | |
特開 2024-86907 | シリコンエッチング液及び該エッチング液を用いたシリコンデバイスの製造方法 | 2024年 6月28日 | |
特開 2024-85598 | 位置検出方法およびプログラム | 2024年 6月27日 | |
特開 2024-83727 | 印刷データ処理方法、印刷データ処理装置、印刷システム、および印刷データ処理プログラム | 2024年 6月24日 |
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2024-92671 2024-90624 2024-91022 2024-91091 2024-91092 2024-91093 2024-91251 2024-88931 2024-89063 2024-89220 2024-89558 2024-87130 2024-86907 2024-85598 2024-83727
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2月4日(火) - 東京 港区
2月4日(火) - 神奈川 川崎市
2月4日(火) -
2月4日(火) -
2月5日(水) - 東京 港区
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月6日(木) - 東京 港区
2月6日(木) -
2月7日(金) -
2月7日(金) - 東京 港区
2月7日(金) - 神奈川 横浜市
2月7日(金) -
2月13日(木) - 岐阜 大垣市
2月13日(木) -
2月13日(木) -
2月13日(木) - 神奈川 綾瀬市
2月13日(木) -
2月13日(木) -
2月14日(金) - 東京 大田
<エンジニア(技術者)および研究開発担当(R&D部門)向け> 基礎から学ぶ/自分で行うIPランドスケープ®の活用・実践 <東京会場受講(対面)/Zoomオンライン受講 選択可> <見逃し視聴選択可>
2月14日(金) - 東京 千代田区
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