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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 7444947 | 基板処理装置および基板処理システム | 2024年 3月 6日 | |
特許 7445057 | 学習装置、検査装置、アライメント装置および学習方法 | 2024年 3月 6日 | |
特許 7443163 | 基板処理方法および基板処理装置 | 2024年 3月 5日 | |
特許 7441620 | 基板処理方法 | 2024年 3月 1日 | |
特許 7441664 | 基板処理装置 | 2024年 3月 1日 | |
特許 7441665 | 基板処理装置 | 2024年 3月 1日 | |
特許 7441666 | 基板処理装置 | 2024年 3月 1日 | |
特許 7441706 | 基板処理方法 | 2024年 3月 1日 | |
特許 7441724 | 熱処理装置および熱処理方法 | 2024年 3月 1日 | |
特許 7441995 | 基板処理装置 | 2024年 3月 1日 | |
特許 7441076 | 描画装置 | 2024年 2月29日 | |
特許 7441131 | 基板処理監視に用いる設定情報の設定方法、基板処理装置の監視方法および基板処理装置 | 2024年 2月29日 | |
特許 7441359 | 基板処理方法 | 2024年 2月29日 | |
特許 7440316 | 基板処理方法および基板処理装置 | 2024年 2月28日 | |
特許 7439221 | 補正方法、基板処理装置、及び補正データ生成装置 | 2024年 2月27日 |
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7444947 7445057 7443163 7441620 7441664 7441665 7441666 7441706 7441724 7441995 7441076 7441131 7441359 7440316 7439221
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