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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第63位 461件
(
2023年:第72位 424件)
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第89位 341件
(
2023年:第91位 347件)
(ランキング更新日:2025年10月31日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7414629 | 学習用データ処理装置、学習装置、学習用データ処理方法、およびプログラム | 2024年 1月16日 | |
| 特許 7413113 | 処理液温調方法、基板処理方法、処理液温調装置、及び、基板処理システム | 2024年 1月15日 | |
| 特許 7412188 | 搬送処理装置 | 2024年 1月12日 | |
| 特許 7411844 | 搬送処理装置および搬送処理方法 | 2024年 1月11日 | |
| 特許 7410772 | 光変調器の検査方法および検査装置 | 2024年 1月10日 | |
| 特許 7410773 | 光変調器の検査方法および検査装置 | 2024年 1月10日 | |
| 特許 7409925 | 基板処理方法および基板処理装置 | 2024年 1月 9日 | |
| 特許 7409956 | 基板処理装置、及び基板処理方法 | 2024年 1月 9日 | |
| 特許 7408403 | 搬送処理装置 | 2024年 1月 5日 | |
| 特許 7408421 | 処理条件特定方法、基板処理方法、基板製品製造方法、コンピュータープログラム、記憶媒体、処理条件特定装置、及び、基板処理装置 | 2024年 1月 5日 | |
| 特許 7408436 | 印刷方法 | 2024年 1月 5日 | |
| 特許 7408612 | 現像装置 | 2024年 1月 5日 | |
| 特許 7407607 | プラズマ発生装置および基板処理装置 | 2024年 1月 4日 |
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7414629 7413113 7412188 7411844 7410772 7410773 7409925 7409956 7408403 7408421 7408436 7408612 7407607
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11月14日(金) -
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11月10日(月) - 東京 品川区
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