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■ 2023年 出願公開件数ランキング 第405位 81件
(2022年:第908位 29件)
■ 2023年 特許取得件数ランキング 第1516位 13件
(2022年:第6243位 2件)
(ランキング更新日:2025年6月10日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2023-35984 | インピーダンス調整器を含む基材処理装置 | 2023年 3月13日 | |
特開 2023-35985 | 位置決めデバイスを含むガス分配アセンブリ | 2023年 3月13日 | |
特開 2023-29286 | ウエハ処理反応器システムにおける固着した移動リフトピンの検出方法 | 2023年 3月 3日 | |
特開 2023-26373 | ヒドラジド系前駆体を使用する窒化ホウ素膜の堆積 | 2023年 2月24日 | |
特開 2023-25686 | パターン化された構造を形成する方法 | 2023年 2月22日 | |
特開 2023-24402 | 前駆体送達システムおよびそのための方法 | 2023年 2月16日 | |
特開 2023-20984 | その場生成プロセスおよびシステム | 2023年 2月 9日 | |
特開 2023-18677 | プロセスチャンバへの前駆体送達をモニターするシステムおよび方法 | 2023年 2月 8日 | |
特開 2023-14191 | 基材用のカセットを保管するための保管装置、およびそれを備える処理装置 | 2023年 1月26日 | |
特開 2023-8926 | 石英の失透を低減するための半導体堆積反応器および構成要素 | 2023年 1月19日 | |
特開 2023-8984 | カセット蓋開放デバイス | 2023年 1月19日 | |
特開 2023-8985 | 抽出器チャンバを備える複数の基材を処理するための装置 | 2023年 1月19日 | |
特開 2023-8986 | クリーニングガスを提供するクリーニングガスシステムを有する化学蒸着炉 | 2023年 1月19日 | |
特開 2023-7474 | 膜を堆積するための化学蒸着炉 | 2023年 1月18日 | |
特開 2023-7475 | ベアリングの温度を測定するための温度センサを有する半導体基材処理装置 | 2023年 1月18日 |
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2023-35984 2023-35985 2023-29286 2023-26373 2023-25686 2023-24402 2023-20984 2023-18677 2023-14191 2023-8926 2023-8984 2023-8985 2023-8986 2023-7474 2023-7475
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6月13日(金) -
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6月16日(月) - 東京 大田
6月17日(火) -
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6月18日(水) -
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6月19日(木) - 大阪 大阪市
6月19日(木) -
6月20日(金) - 東京 千代田区
6月20日(金) - 東京 千代田区
6月20日(金) -
6月20日(金) - 愛知 名古屋市
6月16日(月) - 東京 大田
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