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エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェー

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　■　2023年出願公開件数ランキング　　　第405位　81件（2022年：第908位　29件）

　■　2023年特許取得件数ランキング　　　第1516位　13件（2022年：第6243位　2件）

（ランキング更新日：2024年11月28日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

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エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェーの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特開 2023-120310	有機膜の気相堆積	2023年 8月29日
特開 2023-117391	基板処理装置	2023年 8月23日
特開 2023-111885	マルチゾーンラミネートヒータープレート	2023年 8月10日
特開 2023-108616	原料容器重量モニタリングを有する反応器システム	2023年 8月 4日
特開 2023-100262	遠隔プラズマユニットおよび遠隔プラズマユニットを含む基材処理装置	2023年 7月18日
特開 2023-100264	遠隔プラズマユニットおよび遠隔プラズマユニットを含む基材プロセッシング装置	2023年 7月18日
特開 2023-99338	加熱および温度モニタリングのための方法および装置	2023年 7月12日
特開 2023-98683	ガス供給ユニットおよびガス供給ユニットを含む基材プロセッシング装置	2023年 7月10日
特開 2023-98701	ウエハの縁部のパージを伴う半導体プロセッシングデバイス	2023年 7月10日
特開 2023-90709	垂直炉用のライナーおよびフランジ組立品ならびにライナーおよび垂直炉	2023年 6月29日
特開 2023-88875	ヒーターを有する半導体処理装置	2023年 6月27日
特開 2023-85230	蒸着反応器用の遠隔固体原料反応物質送達システム	2023年 6月20日
特開 2023-84114	半導体処理ツールのための反応物質蒸気送達システムおよび方法	2023年 6月16日
特開 2023-81328	処理アセンブリ、チャンバー、および方法	2023年 6月 9日
特開 2023-68637	基材処理装置	2023年 5月17日

81 件中 31-45 件を表示

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2023-120310 2023-117391 2023-111885 2023-108616 2023-100262 2023-100264 2023-99338 2023-98683 2023-98701 2023-90709 2023-88875 2023-85230 2023-84114 2023-81328 2023-68637

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2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数

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