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株式会社ニューフレアテクノロジー
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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第410位 100件
（
2012年：第343位 120件）
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第439位 82件
（
2012年：第464位 75件）
（ランキング更新日：2025年1月20日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社ニューフレアテクノロジーの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2013-145873 | 成膜装置および成膜方法 | 2013年 7月25日 | 共同出願 |
| 特開 2013-142609 | 光束分岐素子、およびマスク欠陥検査装置 | 2013年 7月22日 | |
| 特開 2013-142774 | 照明装置、および拡大観察装置 | 2013年 7月22日 | |
| 特開 2013-143441 | 荷電粒子ビーム描画方法、描画粒子ビーム描画プログラムおよび荷電粒子ビーム描画装置 | 2013年 7月22日 | |
| 特開 2013-128032 | マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法 | 2013年 6月27日 | |
| 特開 2013-128031 | マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法 | 2013年 6月27日 | |
| 特開 2013-128086 | 成膜装置および成膜方法 | 2013年 6月27日 | 共同出願 |
| 特開 2013-125810 | 成膜装置および成膜方法 | 2013年 6月24日 | |
| 特開 2013-120101 | 検査装置 | 2013年 6月17日 | |
| 特開 2013-120943 | 荷電粒子ビーム描画装置および荷電粒子ビーム描画方法 | 2013年 6月17日 | |
| 特開 2013-120833 | 荷電粒子ビーム描画装置および荷電粒子ビーム描画方法 | 2013年 6月17日 | |
| 特開 2013-115373 | 荷電粒子ビーム描画装置および荷電粒子ビーム描画方法 | 2013年 6月10日 | |
| 特開 2013-115303 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2013年 6月10日 | |
| 特開 2013-115304 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2013年 6月10日 | |
| 特開 2013-115219 | 荷電粒子ビーム描画装置および荷電粒子ビーム描画方法 | 2013年 6月10日 |
100 件中 31-45 件を表示
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2013-145873 2013-142609 2013-142774 2013-143441 2013-128032 2013-128031 2013-128086 2013-125810 2013-120101 2013-120943 2013-120833 2013-115373 2013-115303 2013-115304 2013-115219
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