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アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第200位 217件
（
2015年：第263位 162件）
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第268位 121件
（
2015年：第236位 126件）
（ランキング更新日：2025年1月17日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特表 2016-531438 | インシトゥで取り出すことができる静電チャック | 2016年10月 6日 | |
| 特表 2016-531447 | ダイのパッケージング品質改善のためのウエハのダイシング方法 | 2016年10月 6日 | |
| 特開 2016-178284 | プラズマ処理用のデュアルゾーンヒータ | 2016年10月 6日 | |
| 特開 2016-178304 | 下部ウエハ欠陥に対する保持リング | 2016年10月 6日 | |
| 特開 2016-178322 | 基板の加熱および冷却の制御改善のための装置および方法 | 2016年10月 6日 | |
| 特表 2016-530192 | 蓋及びノズル上の希土類酸化物系コーティング用イオンアシスト蒸着 | 2016年 9月29日 | |
| 特表 2016-530699 | プラズマ処理システムのためのアンテナアレイ構成 | 2016年 9月29日 | |
| 特表 2016-530705 | 縁部クリティカルディメンジョンの均一性制御用のプロセスキット | 2016年 9月29日 | |
| 特表 2016-530706 | ＩＣＰプラズマ処理チャンバ内における高収率・基板最端部欠陥低減のための単一リング設計 | 2016年 9月29日 | |
| 特表 2016-530729 | エッチング後のインターフェースを安定化し、次の処理ステップ前のキュータイム問題を最小化する方法 | 2016年 9月29日 | |
| 特表 2016-530730 | エピ予熱リング | 2016年 9月29日 | |
| 特表 2016-529404 | 電気メッキ接着用の陽極酸化アーキテクチャ | 2016年 9月23日 | |
| 特表 2016-529652 | プラズマリアクタ用の強化されたプラズマ源 | 2016年 9月23日 | |
| 特表 2016-529718 | 薄い基板をハンドリングするための静電キャリア | 2016年 9月23日 | |
| 特表 2016-529733 | 基板支持システム | 2016年 9月23日 |
217 件中 61-75 件を表示
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2016-531438 2016-531447 2016-178284 2016-178304 2016-178322 2016-530192 2016-530699 2016-530705 2016-530706 2016-530729 2016-530730 2016-529404 2016-529652 2016-529718 2016-529733
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