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アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッド

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　■　2017年出願公開件数ランキング　　　第207位　254件（2016年：第200位　217件）

　■　2017年特許取得件数ランキング　　　第227位　136件（2016年：第268位　121件）

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アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッドの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特表 2017-502514	回転可能な被加熱静電チャック	2017年 1月19日
特表 2017-502529	赤外線カメラを使用した低温ＲＴＰ制御	2017年 1月19日
特開 2017-14618	フレキシブル基板を処理する方法	2017年 1月19日
特表 2017-501570	予熱部材をセルフセンタリングするための装置	2017年 1月12日
特表 2017-501572	より小さいウエハおよびウエハ片向けのウエハキャリア	2017年 1月12日
特表 2017-501591	処理システムを使用した空隙構造の組込	2017年 1月12日
特開 2017-11261	膜スタック形成のためのデュアルチャネルシャワーヘッド	2017年 1月12日
特開 2017-11282	半導体処理チャンバーのための銀リフレクタ	2017年 1月12日
特表 2017-500446	有機材料用の蒸発源、有機材料用の蒸発源を有する装置、有機材料用の蒸発源を含む蒸発堆積装置を有するシステム、及び有機材料用の蒸発源を操作するための方法	2017年 1月 5日
特表 2017-500447	処理デバイス用、特に内部に有機材料を含むデバイス用の処理装置、及び処理真空チャンバから保守真空チャンバへ又は保守真空チャンバから処理真空チャンバへ蒸発源を移送するための方法	2017年 1月 5日
特表 2017-500740	ウエハをダイシングする方法及びそのためのキャリア	2017年 1月 5日
特表 2017-500745	基板粒子生成が低減する基板支持装置	2017年 1月 5日
特表 2017-500755	側面数増強対応移送チャンバ、半導体デバイスの製造処理ツール及び処理方法	2017年 1月 5日
特開 2017-2404	ＰＶＤアレイ用の多方向レーストラック回転カソード	2017年 1月 5日
特開 2017-5242	半導体処理システムにおける外部基板回転	2017年 1月 5日

255 件中 241-255 件を表示

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2017-502514 2017-502529 2017-14618 2017-501570 2017-501572 2017-501591 2017-11261 2017-11282 2017-500446 2017-500447 2017-500740 2017-500745 2017-500755 2017-2404 2017-5242

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