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アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッド

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　■　2017年出願公開件数ランキング　　　第207位　254件（2016年：第200位　217件）

　■　2017年特許取得件数ランキング　　　第227位　136件（2016年：第268位　121件）

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アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッドの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特表 2017-504176	高密度低エネルギープラズマによる半導体表面の界面処理	2017年 2月 2日
特表 2017-504184	アクセスが容易なランプヘッド	2017年 2月 2日
特表 2017-504209	炭素膜応力緩和	2017年 2月 2日
特開 2017-28248	基板リフトピンアクチュエータ	2017年 2月 2日
特表 2017-503074	ＡＣ電力コネクタ、スパッタリング装置、及びそのための方法	2017年 1月26日
特表 2017-503079	空間的原子層堆積又はパルス化学気相堆積を使用する膜堆積	2017年 1月26日
特表 2017-503307	取り外し可能なインターフェイスを有する誘電体導管アセンブリを使用したプラズマ発生源及び関連するアセンブリ及び方法	2017年 1月26日
特表 2017-503323	リチウム金属上の固体電解質およびバリアならびにその方法	2017年 1月26日
特表 2017-503354	基板用保持アレンジメント	2017年 1月26日
特表 2017-503359	空間的原子層堆積法による、自己整合ダブルパターニング	2017年 1月26日
特表 2017-501954	紫外線リソグラフィ用ガラスセラミックス及びその製造方法	2017年 1月19日
特表 2017-502172	真空処理装置用の基板スプレッディングデバイス、基板スプレッディングデバイスを有する真空処理装置、及びそれを動作させる方法	2017年 1月19日
特表 2017-502321	チャックアセンブリを有する極端紫外線リソグラフィーシステム及びその製造方法	2017年 1月19日
特表 2017-502486	ＲＴＰランプベースの改良	2017年 1月19日
特表 2017-502489	高周波アプリケータを有する回転可能な基板支持体	2017年 1月19日

255 件中 226-240 件を表示

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2017-504176 2017-504184 2017-504209 2017-28248 2017-503074 2017-503079 2017-503307 2017-503323 2017-503354 2017-503359 2017-501954 2017-502172 2017-502321 2017-502486 2017-502489

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