特許ランキング - 出願人詳細情報 -

アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッド

※ ログインすれば出願人(アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッド)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2019年出願公開件数ランキング　　　第128位　330件（2018年：第153位　256件）

　■　2019年特許取得件数ランキング　　　第156位　176件（2018年：第188位　158件）

（ランキング更新日：2026年10月9日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年 2026年

アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッドの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特開 2019-201207	閉ループチャッキング力制御を用いたリアルタイム監視	2019年11月21日
特表 2019-533306	広範囲にわたる温度制御のためのヒータペデスタルアセンブリ	2019年11月14日
特表 2019-532825	化学機械研磨スマートリング	2019年11月14日
特表 2019-533236	ｋ近傍およびロジスティック回帰アプローチを用いた時系列異常検出、異常分類、ならびに遷移分析	2019年11月14日
特表 2019-533274	プラズマ処理チャンバ用プラズマスクリーン	2019年11月14日
特表 2019-533313	可撓性機器フロントエンドモジュールインターフェース、環境制御された機器フロントエンドモジュール、及び組み付け方法	2019年11月14日
特開 2019-197890	電流帰還出力ステージを有するパルス発生器を使用してイオンエネルギー分布を制御する方法	2019年11月14日
特開 2019-197891	電流帰還出力ステージを有するパルス発生器を使用してイオンエネルギー分布を制御する方法	2019年11月14日
特開 2019-197892	電流帰還出力ステージを有するパルス発生器を使用してイオンエネルギー分布を制御する方法	2019年11月14日
特開 2019-197884	共鳴プロセスモニタ	2019年11月14日
特表 2019-532173	スパッタ源のためのパルス形状コントローラ	2019年11月 7日
特表 2019-532493	真空チャンバ用のドアシール	2019年11月 7日
特表 2019-532486	真空処理システムにおけるデバイスの非接触搬送用の装置及び方法	2019年11月 7日
特表 2019-532485	真空チャンバ内でキャリアを搬送するための装置、及び真空チャンバ内でキャリアを搬送するための方法	2019年11月 7日
特表 2019-532274	色計測学を用いた基板の厚さ測定	2019年11月 7日

330 件中 46-60 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2019-201207 2019-533306 2019-532825 2019-533236 2019-533274 2019-533313 2019-197890 2019-197891 2019-197892 2019-197884 2019-532173 2019-532493 2019-532486 2019-532485 2019-532274

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2026年特許出願件数	2026年特許取得件数
2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数