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■ 2019年 出願公開件数ランキング 第141位 330件
(2018年:第172位 256件)
■ 2019年 特許取得件数ランキング 第156位 176件
(2018年:第188位 158件)
(ランキング更新日:2025年2月14日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2019-201207 | 閉ループチャッキング力制御を用いたリアルタイム監視 | 2019年11月21日 | |
特表 2019-532825 | 化学機械研磨スマートリング | 2019年11月14日 | |
特表 2019-533236 | k近傍およびロジスティック回帰アプローチを用いた時系列異常検出、異常分類、ならびに遷移分析 | 2019年11月14日 | |
特表 2019-533274 | プラズマ処理チャンバ用プラズマスクリーン | 2019年11月14日 | |
特表 2019-533306 | 広範囲にわたる温度制御のためのヒータペデスタルアセンブリ | 2019年11月14日 | |
特表 2019-533313 | 可撓性機器フロントエンドモジュールインターフェース、環境制御された機器フロントエンドモジュール、及び組み付け方法 | 2019年11月14日 | |
特開 2019-197884 | 共鳴プロセスモニタ | 2019年11月14日 | |
特開 2019-197890 | 電流帰還出力ステージを有するパルス発生器を使用してイオンエネルギー分布を制御する方法 | 2019年11月14日 | |
特開 2019-197891 | 電流帰還出力ステージを有するパルス発生器を使用してイオンエネルギー分布を制御する方法 | 2019年11月14日 | |
特開 2019-197892 | 電流帰還出力ステージを有するパルス発生器を使用してイオンエネルギー分布を制御する方法 | 2019年11月14日 | |
特表 2019-532173 | スパッタ源のためのパルス形状コントローラ | 2019年11月 7日 | |
特表 2019-532274 | 色計測学を用いた基板の厚さ測定 | 2019年11月 7日 | |
特表 2019-532485 | 真空チャンバ内でキャリアを搬送するための装置、及び真空チャンバ内でキャリアを搬送するための方法 | 2019年11月 7日 | |
特表 2019-532486 | 真空処理システムにおけるデバイスの非接触搬送用の装置及び方法 | 2019年11月 7日 | |
特表 2019-532493 | 真空チャンバ用のドアシール | 2019年11月 7日 |
330 件中 46-60 件を表示
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2019-201207 2019-532825 2019-533236 2019-533274 2019-533306 2019-533313 2019-197884 2019-197890 2019-197891 2019-197892 2019-532173 2019-532274 2019-532485 2019-532486 2019-532493
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2月17日(月) - 大阪 大阪市
(オンライン参加可)体験談から学ぶ知的財産権 その時どうする?~海外で商標権がバッティング?オープンファクトリーの知財リスク?~
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2月20日(木) -
2月20日(木) -
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パテントマップを用いた知財戦略の策定方法 -自社が勝つパテントマップ作成と それを活用した開発戦略・知財戦略の実践方法- <東京会場受講(対面)/Zoomオンライン受講 選択可> <見逃し視聴選択可>
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2月25日(火) -
2月25日(火) -
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