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■ 2020年 出願公開件数ランキング 第138位 311件
(2019年:第141位 330件)
■ 2020年 特許取得件数ランキング 第136位 210件
(2019年:第156位 176件)
(ランキング更新日:2025年8月25日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 6715621 | プラズマスキュー制御のための遠隔プラズマ源 | 2020年 7月 1日 | |
特許 6713413 | 低圧ツール交換を可能にする原子層堆積処理チャンバ | 2020年 6月24日 | |
特許 6714571 | プロセスリング上の希土類酸化物系薄膜コーティング用イオンアシスト蒸着 | 2020年 6月24日 | |
特許 6709736 | ピクセル型温度制御式基板支持アセンブリ | 2020年 6月17日 | |
特許 6709855 | 半導体処理チャンバ | 2020年 6月17日 | |
特許 6710204 | プラズマ損傷保護のための多層誘電体スタック | 2020年 6月17日 | |
特許 6710217 | プラズマ処理システム用の低温チャック | 2020年 6月17日 | |
特許 6710694 | 湿式化学プロセス中に基板にコンタクトするための摩擦強化パターンを有する周面を用いる圧縮成形物品 | 2020年 6月17日 | |
特許 6710783 | 高出力プラズマエッチングプロセスのためのガス分配プレートアセンブリ | 2020年 6月17日 | |
特許 6711592 | プラズマチャンバ部品用耐プラズマコーティング | 2020年 6月17日 | |
特許 6711838 | 静電チャック表面の半径方向外側パッド設計 | 2020年 6月17日 | |
特許 6711839 | 酸化ケイ素薄膜の選択的横成長 | 2020年 6月17日 | |
特許 6706650 | 共通の堆積プラットフォーム、処理ステーション、およびその動作方法 | 2020年 6月10日 | |
特許 6709104 | 基板リフトピンアクチュエータ | 2020年 6月10日 | |
特許 6709164 | 高温アプリケーション用プラズマ耐食性薄膜コーティング | 2020年 6月10日 |
211 件中 91-105 件を表示
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6715621 6713413 6714571 6709736 6709855 6710204 6710217 6710694 6710783 6711592 6711838 6711839 6706650 6709104 6709164
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