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アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
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■ 2020年 出願公開件数ランキング 第138位 311件
（
2019年：第141位 330件）
■ 2020年 特許取得件数ランキング 第136位 210件
（2019年：第156位 176件）
（ランキング更新日：2025年6月27日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6751437 | 物体を保持し、位置付け、かつ／又は動かすための装置、及び、物体を保持し、位置付け、かつ／又は動かすための装置を動作させる方法 | 2020年 9月 2日 | |
| 特許 6751447 | 真空内のフレキシブル基板の連続処理のための装置、及びそのための方法 | 2020年 9月 2日 | |
| 特許 6751448 | 半導体処理用のガス分配シャワーヘッド | 2020年 9月 2日 | |
| 特許 6746730 | 冷却された真空閉じ込め容器を備えるホットウォールリアクタ | 2020年 8月26日 | |
| 特許 6741594 | キャリアによって支持された基板上に一又は複数の層を堆積させるためのシステム、及び当該システムを使用する方法 | 2020年 8月19日 | |
| 特許 6742366 | 基板の加熱および冷却の制御改善のための装置および方法 | 2020年 8月19日 | |
| 特許 6737899 | プラズマ処理チャンバでのインシトゥチャンバ洗浄効率向上のためのプラズマ処理プロセス | 2020年 8月12日 | |
| 特許 6738485 | 低圧リフトピンキャビティハードウェア | 2020年 8月12日 | |
| 特許 6738742 | ホール効果が促進された容量結合プラズマ源、軽減システム、および真空処理システム | 2020年 8月12日 | |
| 特許 6739182 | プラズマ処理用のデュアルゾーンヒータ | 2020年 8月12日 | |
| 特許 6739631 | サブ７ＮＭＣＭＯＳ製造におけるヒ素ガス放出制御のためのＵＶ放射システム及び方法 | 2020年 8月12日 | |
| 特許 6740353 | 磁気浮上システム、磁気浮上システム用のキャリア、及び、磁気浮上システムを動作させる方法 | 2020年 8月12日 | |
| 特許 6734393 | ウエハガス放出のためのプラズマエンハンストアニールチャンバ | 2020年 8月 5日 | |
| 特許 6735314 | 高周波（ＲＦ）スパッタ堆積源、堆積装置及びその組立て方法 | 2020年 8月 5日 | |
| 特許 6735350 | 真空処理システムにおけるデバイスの非接触搬送用の装置及び方法 | 2020年 8月 5日 |
211 件中 61-75 件を表示
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6751437 6751447 6751448 6746730 6741594 6742366 6737899 6738485 6738742 6739182 6739631 6740353 6734393 6735314 6735350
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