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■ 2020年 出願公開件数ランキング 第138位 311件
(2019年:第141位 330件)
■ 2020年 特許取得件数ランキング 第136位 210件
(2019年:第156位 176件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 6686014 | ファクトリインターフェースで基板キャリアをパージするシステム、装置及び方法 | 2020年 4月22日 | |
特許 6679591 | プロセス均一性を高めるための方法およびシステム | 2020年 4月15日 | |
特許 6681345 | リフトピンアセンブリ | 2020年 4月15日 | |
特許 6681857 | 希土類酸化物系モノリシックチャンバ材料 | 2020年 4月15日 | |
特許 6681977 | 基板を真空処理するための装置、基板を真空処理するためのシステム、及び、真空チャンバ内で基板キャリアとマスクキャリアを搬送するための方法 | 2020年 4月15日 | |
特許 6681994 | 真空チャンバ内で基板キャリアを搬送するための装置、基板の真空処理のためのシステム、及び真空チャンバ内で基板キャリアを搬送するための方法 | 2020年 4月15日 | |
特許 6682648 | ガス流量比制御のための方法及びアセンブリ | 2020年 4月15日 | |
特許 6682649 | ガス流量比制御のための方法及びアセンブリ | 2020年 4月15日 | |
特許 6676042 | プラズマダイシングのための近接接触カバーリング | 2020年 4月 8日 | |
特許 6676640 | UV硬化性CMP研磨パッド及び製造方法 | 2020年 4月 8日 | |
特許 6678098 | 半導体アプリケーション用希土類酸化物系耐食性コーティング | 2020年 4月 8日 | |
特許 6678166 | 注入を用いた流動性膜特性のチューニング | 2020年 4月 8日 | |
特許 6670750 | 処理チャンバ用のチャンバコンポーネント及びその製造方法 | 2020年 3月25日 | |
特許 6670941 | 真空堆積処理で使用される基板を保持するための装置、基板上に層を堆積するためのシステム、及び基板を保持するための方法 | 2020年 3月25日 | |
特許 6671472 | プラズマ源、軽減システム、真空処理システム | 2020年 3月25日 |
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6686014 6679591 6681345 6681857 6681977 6681994 6682648 6682649 6676042 6676640 6678098 6678166 6670750 6670941 6671472
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