特許ランキング - 出願人詳細情報 -

アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッド

※ ログインすれば出願人(アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッド)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2020年出願公開件数ランキング　　　第138位　311件（2019年：第141位　330件）

　■　2020年特許取得件数ランキング　　　第136位　210件（2019年：第156位　176件）

（ランキング更新日：2025年6月27日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年

アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッドの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特許 6760930	研磨用物品、及び、化学機械研磨用物品を製造するための統合型のシステムと方法	2020年 9月23日
特許 6754765	プラズマ生成物を供給するための装置および方法	2020年 9月16日
特許 6754887	デジタルリソグラフィのための焦点センタリング方法	2020年 9月16日
特許 6756853	チャンバ内部の流れを拡散させることによる低い粒子数及びより良好なウエハ品質のための効果的で新しい設計	2020年 9月16日
特許 6752205	トロイダルプラズマ源を有するプラズマ処理システムおよびプラズマ処理の方法	2020年 9月 9日
特許 6752797	基板裏側の変色制御のための支持組立体	2020年 9月 9日
特許 6753866	ロードロック装置、冷却プレートアセンブリ、並びに電子デバイス処理システム及び方法	2020年 9月 9日
特許 6753953	改良された半導体エッチングおよび部品保護のためのシステムおよび方法	2020年 9月 9日
特許 6753954	改良された半導体エッチングおよび部品保護のためのシステムおよび方法	2020年 9月 9日
特許 6749238	プラズマ火炎熱処理を用いたプラズマ溶射コーティングの強化	2020年 9月 2日
特許 6749295	エピタキシャル成長による成膜方法、および、エピタキシャル成長装置	2020年 9月 2日
特許 6749516	酸化ケイ素薄膜の選択的横成長	2020年 9月 2日
特許 6749834	基板上の三次元構造の層のＮＨ３含有プラズマ窒化	2020年 9月 2日
特許 6750122	フォトレジスト層におけるフィールド誘導型酸プロファイル制御のための装置	2020年 9月 2日
特許 6751107	表面ブロッキング化学作用を用いた薄膜誘電体の選択的堆積	2020年 9月 2日

211 件中 46-60 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

6760930 6754765 6754887 6756853 6752205 6752797 6753866 6753953 6753954 6749238 6749295 6749516 6749834 6750122 6751107

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッドの知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数