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アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド

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  2021年 出願公開件数ランキング    第132位 313件 上昇2020年:第138位 311件)

  2021年 特許取得件数ランキング    第117位 241件 上昇2020年:第136位 210件)

(ランキング更新日:2025年12月12日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特開 2021-132201 3D−NANDメモリセル構造 2021年 9月 9日
特開 2021-132219 比例式熱流体送達システムを使用した基板キャリア 2021年 9月 9日
特開 2021-132220 高アスペクト比の構造体のための除去方法 2021年 9月 9日
特表 2021-523025 親水性及びゼータ電位の調節可能な化学機械研磨パッド 2021年 9月 2日
特表 2021-523293 ポリゴンスキャナを用いた付加製造 2021年 9月 2日
特表 2021-523413 フレキシブルディスプレイ用の交換可能なカバーレンズ 2021年 9月 2日
特表 2021-523556 中心からエッジへの圧力の変化を制御するための圧力スキューシステム 2021年 9月 2日
特表 2021-523558 パターニングのための高品質C膜のパルスプラズマ(DC/RF)蒸着 2021年 9月 2日
特表 2021-523559 ペデスタル用のRF接地構成 2021年 9月 2日
特表 2021-523565 基板の変形の検出と修正 2021年 9月 2日
特表 2021-523569 磁気トンネル接合構造及びその製造方法 2021年 9月 2日
特表 2021-522405 気相堆積によるP−金属仕事関数膜の仕事関数の調整 2021年 8月30日
特表 2021-522411 バリア層なしのタングステン堆積物 2021年 8月30日
特表 2021-522413 カーボンハードマスクのプラズマ強化化学気相堆積 2021年 8月30日
特表 2021-522415 周期的高電圧バイアスを用いたプラズマ化学気相堆積 2021年 8月30日

313 件中 136-150 件を表示

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2021-132201 2021-132219 2021-132220 2021-523025 2021-523293 2021-523413 2021-523556 2021-523558 2021-523559 2021-523565 2021-523569 2021-522405 2021-522411 2021-522413 2021-522415

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