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アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
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■ 2021年 出願公開件数ランキング 第132位 313件
（
2020年：第138位 311件）
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第117位 241件
（2020年：第136位 210件）
（ランキング更新日：2025年12月12日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特表 2021-525954 | 基板製造装置及びファクトリインターフェースチャンバの加熱を用いた方法 | 2021年 9月27日 | |
| 特表 2021-525963 | フラットパネルプロセス機器用の温度制御ガスディフューザー | 2021年 9月27日 | |
| 特表 2021-525314 | 付加製造のためのエアナイフ | 2021年 9月24日 | |
| 特表 2021-525454 | 極めて均一性が高い加熱基板支持アセンブリ | 2021年 9月24日 | |
| 特表 2021-525456 | 傾斜角光格子をインプリントする方法 | 2021年 9月24日 | |
| 特開 2021-145129 | 高温プロセス用の金属接合されたバッキングプレートを有する静電パックアセンブリ | 2021年 9月24日 | |
| 特表 2021-525005 | 結合層とピンニング層の格子整合を用いた磁気トンネル接合 | 2021年 9月16日 | |
| 特表 2021-524670 | 空間分解ウエハ温度制御のための仮想センサ | 2021年 9月13日 | |
| 特表 2021-523982 | 原子層自己整合基板の処理及び統合型ツールセット | 2021年 9月 9日 | |
| 特表 2021-523984 | 物理的気相堆積チャンバ内電磁石 | 2021年 9月 9日 | |
| 特表 2021-524159 | デュアルロードロックチャンバ | 2021年 9月 9日 | |
| 特表 2021-524160 | 電子デバイス製造において複数の基板を移送するように適合されたマルチブレードロボット装置、電子デバイス製造装置、及び方法 | 2021年 9月 9日 | |
| 特表 2021-524162 | ガス状副生成物軽減およびフォアライン洗浄のための装置 | 2021年 9月 9日 | |
| 特開 2021-131550 | ディスプレイ技術のためのナノ構造の平坦レンズ | 2021年 9月 9日 | |
| 特開 2021-131558 | ワイヤグリッド偏光板製造方法 | 2021年 9月 9日 |
313 件中 121-135 件を表示
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2021-525954 2021-525963 2021-525314 2021-525454 2021-525456 2021-145129 2021-525005 2021-524670 2021-523982 2021-523984 2021-524159 2021-524160 2021-524162 2021-131550 2021-131558
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