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■ 2021年 出願公開件数ランキング 第132位 313件
(
2020年:第138位 311件)
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第117位 241件
(
2020年:第136位 210件)
(ランキング更新日:2025年12月12日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特表 2021-527328 | 保護コーティングを有するプロセスチャンバプロセスキット | 2021年10月11日 | |
| 特表 2021-527332 | ウエハの迅速な処理のための高温洗浄を可能とする技術 | 2021年10月11日 | |
| 特表 2021-527338 | 堆積チャンバへのプロセス材料の流れを制御するための装置及び方法 | 2021年10月11日 | |
| 特表 2021-527340 | 薄膜の応力を軽減するためのインシトゥ高電力注入 | 2021年10月11日 | |
| 特表 2021-526585 | 金属汚染を制御するためのチャンバのインシトゥCVD及びALDコーティング | 2021年10月 7日 | |
| 特開 2021-155848 | アモルファスカーボン膜の分子層堆積 | 2021年10月 7日 | |
| 特開 2021-157811 | k近傍およびロジスティック回帰アプローチを用いた時系列異常検出、異常分類、ならびに遷移分析 | 2021年10月 7日 | |
| 特開 2021-158347 | 炭素系膜の気相堆積 | 2021年10月 7日 | |
| 特開 2021-158369 | ピクセル化された容量制御ESC | 2021年10月 7日 | |
| 特表 2021-526237 | デジタルリソグラフィシステムでのマルチ基板処理 | 2021年 9月30日 | |
| 特表 2021-526310 | 角度付きエッチングツール内での基板回転によるエッチング角度の制御 | 2021年 9月30日 | |
| 特開 2021-152659 | 非ブレーズドDMDを伴う解像度強化型のデジタルリソグラフィ | 2021年 9月30日 | |
| 特開 2021-153056 | イオン−イオンプラズマ原子層エッチングプロセス及びリアクタ | 2021年 9月30日 | |
| 特表 2021-525952 | より短い対称的な接地経路を提供するための接地経路システム | 2021年 9月27日 | |
| 特表 2021-525953 | 長い運動能力を有する精密な動的レベリング機構 | 2021年 9月27日 |
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2021-527328 2021-527332 2021-527338 2021-527340 2021-526585 2021-155848 2021-157811 2021-158347 2021-158369 2021-526237 2021-526310 2021-152659 2021-153056 2021-525952 2021-525953
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【大阪会場】 前田知財塾 ~スキルアップ編~ 知財の仕事を、もっと深く、もっと面白く! 第2回 「特許権侵害判断・回避構造の検討」
12月19日(金) - 神奈川 川崎市
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