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アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
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■ 2023年 出願公開件数ランキング 第32位 708件
（
2022年：第56位 541件）
■ 2023年 特許取得件数ランキング 第80位 398件
（2022年：第112位 303件）
（ランキング更新日：2025年9月1日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7343619 | 充填による選択的金属用のプロセス統合アプローチ | 2023年 9月12日 | |
| 特許 7342112 | 洗浄および表面処理のための原子状酸素およびオゾン装置 | 2023年 9月11日 | |
| 特許 7340538 | ３次元構造の共形ドーピングのための方法 | 2023年 9月 7日 | |
| 特許 7340660 | 移動するプロセスキットの浸食測定及び位置較正のための方法及び装置 | 2023年 9月 7日 | |
| 特許 7337786 | 空間分離を伴う単一ウエハの処理環境 | 2023年 9月 4日 | |
| 特許 7337877 | 非ブレーズドＤＭＤを伴う解像度強化型のデジタルリソグラフィ | 2023年 9月 4日 | |
| 特許 7337937 | 拡大画像の取得およびストレージ | 2023年 9月 4日 | |
| 特許 7337988 | モジュラーマイクロ波プラズマ源 | 2023年 9月 4日 | |
| 特許 7336591 | モノリシックモジュラー高周波プラズマ源 | 2023年 8月31日 | |
| 特許 7335418 | トランジスタのヒ素拡散プロファイルエンジニアリング | 2023年 8月29日 | |
| 特許 7334220 | 所望のゼータ電位を有する研磨用物品を形成するための装置及び方法 | 2023年 8月28日 | |
| 特許 7334270 | 改善された基板処理のための基板ペデスタル | 2023年 8月28日 | |
| 特許 7333346 | プラズマ化学気相堆積チャンバ内の寄生プラズマを抑制する装置 | 2023年 8月24日 | |
| 特許 7333397 | パターニングされた基板とパターニングされていない基板への堆積膜の連続堆積及び高周波プラズマ処理 | 2023年 8月24日 | |
| 特許 7332614 | 分離した裏側ヘリウム供給システム | 2023年 8月23日 |
398 件中 136-150 件を表示
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7343619 7342112 7340538 7340660 7337786 7337877 7337937 7337988 7336591 7335418 7334220 7334270 7333346 7333397 7332614
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