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■ 2023年 出願公開件数ランキング 第32位 708件
(2022年:第56位 541件)
■ 2023年 特許取得件数ランキング 第80位 398件
(2022年:第112位 303件)
(ランキング更新日:2025年6月27日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 7317990 | チャンバ表面およびプロセスのインシトゥ光学センサ | 2023年 7月31日 | |
特許 7318114 | プラズマ安定性を改善するための同調方法 | 2023年 7月31日 | |
特許 7317013 | 極低温に冷却された回転可能静電チャック | 2023年 7月28日 | |
特許 7317222 | 測定システムおよびグレーティングパターンアレイ | 2023年 7月28日 | |
特許 7316091 | 電流帰還出力ステージを有するパルス発生器を使用してイオンエネルギー分布を制御する方法 | 2023年 7月27日 | |
特許 7316379 | 裏側物理的気相堆積の方法及び装置 | 2023年 7月27日 | |
特許 7313851 | 共鳴プロセスモニタ | 2023年 7月25日 | |
特許 7314262 | 深さ変調された傾斜格子を有する光学部品及び形成方法 | 2023年 7月25日 | |
特許 7314293 | リソグラフィ応用のための膜積層体 | 2023年 7月25日 | |
特許 7314320 | Liイオンバッテリアノード用の保護インターフェース | 2023年 7月25日 | |
特許 7314408 | 熱的に隔離したリペラおよび電極 | 2023年 7月25日 | |
特許 7313387 | プラズマ点源のアレイによってワークピースを処理するためのプラズマリアクタ | 2023年 7月24日 | |
特許 7313414 | 材料構造を改良するための処理 | 2023年 7月24日 | |
特許 7313462 | 基板の欠陥を低減するための乾燥環境 | 2023年 7月24日 | |
特許 7312103 | 化学機械研磨スマートリング | 2023年 7月20日 |
398 件中 181-195 件を表示
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7317990 7318114 7317013 7317222 7316091 7316379 7313851 7314262 7314293 7314320 7314408 7313387 7313414 7313462 7312103
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