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■ 2023年 出願公開件数ランキング 第32位 708件
(2022年:第56位 541件)
■ 2023年 特許取得件数ランキング 第80位 398件
(2022年:第112位 303件)
(ランキング更新日:2025年6月27日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 7348964 | フッ素および金属ハロゲン化物を使用した金属酸化物のエッチング | 2023年 9月21日 | |
特許 7348975 | 一体化されたエピタキシと予洗浄システム | 2023年 9月21日 | |
特許 7348264 | ペリクル接着剤残留物除去システムおよび方法 | 2023年 9月20日 | |
特許 7348383 | マイクロ波エネルギーを用いて基板を処理するための方法および装置 | 2023年 9月20日 | |
特許 7346538 | 半導体デバイスのための相互接続構造を製造するための方法 | 2023年 9月19日 | |
特許 7346698 | フラットパネルディスプレイ用の大面積高密度プラズマ処理チャンバ | 2023年 9月19日 | |
特許 7346733 | 可変エッチング深さを有する斜め格子を製造する方法 | 2023年 9月19日 | |
特許 7345543 | 高温RFヒータペデスタル | 2023年 9月15日 | |
特許 7345600 | 空間プラズマ原子層堆積(PE-ALD)処理ツール用のマイクロ波プラズマ源 | 2023年 9月15日 | |
特許 7345625 | エピタキシチャンバのための熱シールドアセンブリ | 2023年 9月15日 | |
特許 7344676 | プラズマエッチングチャンバ内の汚染を低減する装置 | 2023年 9月14日 | |
特許 7344399 | スリットバルブガス圧制御 | 2023年 9月13日 | |
特許 7343543 | 高アスペクト比の構造体のための除去方法 | 2023年 9月12日 | |
特許 7343553 | 空間的原子層堆積におけるガス分離制御 | 2023年 9月12日 | |
特許 7343598 | 能動的なプロセスにわたるゲートコンタクト | 2023年 9月12日 |
398 件中 121-135 件を表示
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7348964 7348975 7348264 7348383 7346538 7346698 7346733 7345543 7345600 7345625 7344676 7344399 7343543 7343553 7343598
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