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■ 2023年 出願公開件数ランキング 第32位 708件
(2022年:第56位 541件)
■ 2023年 特許取得件数ランキング 第80位 398件
(2022年:第112位 303件)
(ランキング更新日:2025年6月27日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 7362594 | 露光システムアライメントおよび較正方法 | 2023年10月17日 | |
特許 7362669 | より短い対称的な接地経路を提供するための接地経路システム | 2023年10月17日 | |
特許 7362780 | V-NANDワード線スタック用ライナ | 2023年10月17日 | |
特許 7362911 | 選択的自己制限式タングステンエッチングプロセス | 2023年10月17日 | |
特許 7361796 | 処理チャンバにおける流量制御の改善のための装置 | 2023年10月16日 | |
特許 7361893 | 高品質係数埋込型共振器ウエハ | 2023年10月16日 | |
特許 7360391 | プラズマ均一性を制御するための複数の無線周波数メッシュを有する静電チャック | 2023年10月12日 | |
特許 7359876 | ニューロモルフィックスイッチング用の二重酸化物アナログスイッチ | 2023年10月11日 | |
特許 7358301 | ウエハガス放出のためのプラズマエンハンストアニールチャンバ | 2023年10月10日 | |
特許 7357664 | 複数の埋込電極を有する基板支持体 | 2023年10月 6日 | |
特許 7357688 | 多重スペーサパターニングのスキーム | 2023年10月 6日 | |
特許 7357696 | 基板処理チャンバの漂遊プラズマ防止装置 | 2023年10月 6日 | |
特許 7357778 | 金属の原子層エッチング | 2023年10月 6日 | |
特許 7356996 | 化学機械研磨装置における消耗部品モニタリング | 2023年10月 5日 | |
特許 7356585 | マスクレスリソグラフィシステム用ユニバーサル計測ファイル、プロトコル、及びプロセス | 2023年10月 4日 |
398 件中 91-105 件を表示
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7362594 7362669 7362780 7362911 7361796 7361893 7360391 7359876 7358301 7357664 7357688 7357696 7357778 7356996 7356585
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7月2日(水) -
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