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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第41位 605件
(
2023年:第32位 708件)
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第47位 555件
(
2023年:第80位 398件)
(ランキング更新日:2025年10月16日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7542647 | 高性能コーティングが施された半導体チャンバ部品 | 2024年 8月30日 | |
| 特許 7542733 | 二重露光を用いてデジタルリソグラフィのプロセスウィンドウ及び解像度を改善する方法 | 2024年 8月30日 | |
| 特許 7541988 | バッキング層の濡れを調整することによる化学機械研磨パッド剛性の制御 | 2024年 8月29日 | |
| 特許 7542033 | 導波結合器の製造方法 | 2024年 8月29日 | |
| 特許 7542046 | バリア層なしのタングステン堆積物 | 2024年 8月29日 | |
| 特許 7542088 | フォトレジスト気相堆積 | 2024年 8月29日 | |
| 特許 7542117 | より短い対称的な接地経路を提供するための接地経路システム | 2024年 8月29日 | |
| 特許 7541530 | 金属窒化物の堆積のための方法及び装置 | 2024年 8月28日 | |
| 特許 7541626 | プラズマ処理中の自動静電チャックバイアス補償 | 2024年 8月28日 | |
| 特許 7541005 | チャックとアーク放電に関する性能が改良された静電チャック設計 | 2024年 8月27日 | |
| 特許 7541108 | 誘電体材料の充填及び処理の方法 | 2024年 8月27日 | |
| 特許 7539927 | in-situ原子層堆積プロセス | 2024年 8月26日 | |
| 特許 7539993 | 基板処理機器のための基板トレイ移送システム | 2024年 8月26日 | |
| 特許 7540004 | ダイナミックランダムアクセスデバイスを形成するための構造及び方法 | 2024年 8月26日 | |
| 特許 7540027 | スペクトル高周波分析を用いた処理チャンバハードウェア障害検出 | 2024年 8月26日 |
555 件中 196-210 件を表示
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7542647 7542733 7541988 7542033 7542046 7542088 7542117 7541530 7541626 7541005 7541108 7539927 7539993 7540004 7540027
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10月27日(月) -
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日常実務の疑問点に答える著作権(周辺領域の商標・不正競争防止法を含む)に関するQ&A~日常業務において、判断に迷う・知らずして間違いを犯しがちなケースを取り上げて、Q&A形式で平易に解説~
10月28日(火) - 東京 港区
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