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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第41位 605件
(
2023年:第32位 708件)
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第47位 555件
(
2023年:第80位 398件)
(ランキング更新日:2025年10月16日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7553599 | プラズマスペクトルによる動的プラズマ状態におけるプロセス制御および監視の方法 | 2024年 9月18日 | |
| 特許 7553696 | バッチ処理チャンバのための処理間隙制御を有するヒータアセンブリ | 2024年 9月18日 | |
| 特許 7551720 | 複数の前駆体の流れのための半導体処理チャンバ | 2024年 9月17日 | |
| 特許 7551764 | プラズマチャンバ状態モニタリングのための容量性センサ及び容量性感知場所 | 2024年 9月17日 | |
| 特許 7551765 | 基板処理チャンバにおける処理キットのシース及び温度制御 | 2024年 9月17日 | |
| 特許 7551771 | 高伝導処理キット | 2024年 9月17日 | |
| 特許 7550859 | 高密度プラズマ化学気相堆積チャンバ | 2024年 9月13日 | |
| 特許 7550884 | 光照射を使用した基板の電気的クランプを強化するためのシステム装置及び方法 | 2024年 9月13日 | |
| 特許 7550954 | 蒸気アシスト単一基板洗浄プロセス及び装置 | 2024年 9月13日 | |
| 特許 7550992 | ホウ素膜の堆積 | 2024年 9月13日 | |
| 特許 7550155 | 色計測を用いた基板の厚さ測定 | 2024年 9月12日 | |
| 特許 7550215 | 回転式磁気ハウジングを利用したチューニング可能な均一性制御 | 2024年 9月12日 | |
| 特許 7550297 | ドープされた非晶質光学装置膜及びドーパント原子の組み込みを介した堆積 | 2024年 9月12日 | |
| 特許 7549446 | 基板支持台座 | 2024年 9月11日 | |
| 特許 7549655 | UV硬化フィラーを有する有機発光ダイオード(OLED)ディスプレイデバイス | 2024年 9月11日 |
555 件中 166-180 件を表示
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7553599 7553696 7551720 7551764 7551765 7551771 7550859 7550884 7550954 7550992 7550155 7550215 7550297 7549446 7549655
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10月27日(月) -
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日常実務の疑問点に答える著作権(周辺領域の商標・不正競争防止法を含む)に関するQ&A~日常業務において、判断に迷う・知らずして間違いを犯しがちなケースを取り上げて、Q&A形式で平易に解説~
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