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■ 2025年 出願公開件数ランキング 第36位 390件
(2024年:第41位 605件)
■ 2025年 特許取得件数ランキング 第33位 405件
(2024年:第47位 555件)
(ランキング更新日:2025年9月1日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 7672515 | 電場誘導露光後ベークによる金属酸化物レジストのパターニング | 2025年 5月 7日 | |
特許 7671297 | 圧電圧力制御によるキャリアヘッドの研磨 | 2025年 5月 1日 | |
特許 7670486 | 金属堆積用の核生成層としての共形ドープアモルファスシリコン | 2025年 4月30日 | |
特許 7670760 | 温度調整可能なマルチゾーン静電チャック | 2025年 4月30日 | |
特許 7670839 | 高電圧ダブラストリングに沿って電圧分布を最適化するシステム | 2025年 4月30日 | |
特許 7669471 | チャンバ性能を向上させるフッ素コーティング | 2025年 4月28日 | |
特許 7668806 | 薄膜堆積中に膜特性を調整するための方法及び装置 | 2025年 4月25日 | |
特許 7668868 | 直径が減少したマイクロビアの形成方法 | 2025年 4月25日 | |
特許 7668113 | 高品質間隙充填材の高バイアス堆積 | 2025年 4月24日 | |
特許 7668385 | ウエハ端面の均一性を改善する方法 | 2025年 4月24日 | |
特許 7668420 | 製造機器の保守の質を向上させるための検証 | 2025年 4月24日 | |
特許 7667665 | インシトゥ・フルウエハ計測システム | 2025年 4月23日 | |
特許 7667803 | 気相堆積装置及び真空チャンバ内で基板をコーティングするための方法 | 2025年 4月23日 | |
特許 7667807 | 電子デバイス製造における基板搬送のためのロボット装置及びシステム並びに方法 | 2025年 4月23日 | |
特許 7667210 | 自動教示エンクロージャシステム | 2025年 4月22日 |
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7672515 7671297 7670486 7670760 7670839 7669471 7668806 7668868 7668113 7668385 7668420 7667665 7667803 7667807 7667210
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9月12日(金) -
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