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信越半導体株式会社

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  2017年 出願公開件数ランキング    第368位 116件 下降2016年:第339位 111件)

  2017年 特許取得件数ランキング    第265位 112件 変わらず2016年:第265位 122件)

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特開 2017-226584 自立基板の製造方法 2017年12月28日
特開 2017-228686 貼り合わせSOIウェーハの製造方法 2017年12月28日
特開 2017-228725 発光素子の製造方法及び発光素子 2017年12月28日
特開 2017-224652 シリコンウェーハの搬送・保管方法 2017年12月21日
特開 2017-224680 貼り合わせウェーハの製造方法 2017年12月21日
特開 2017-224695 シリコンエピタキシャルウェーハのエピタキシャル層の評価方法及びシリコンエピタキシャルウェーハの製造方法 2017年12月21日
特開 2017-218347 自立基板の製造方法 2017年12月14日
特開 2017-219409 半導体シリコンウェーハの表面欠陥検査方法 2017年12月14日
特開 2017-220503 貼り合わせSOIウェーハの製造方法 2017年12月14日
特開 2017-220545 シリコン単結晶ウェーハの抵抗率評価方法 2017年12月14日
特開 2017-220587 シリコンウェーハの高感度欠陥評価方法およびシリコン単結晶の製造方法 2017年12月14日
特開 2017-212268 単結晶インゴットの切断方法 2017年11月30日
特開 2017-206396 単結晶引き上げ装置及び単結晶引き上げ方法 2017年11月24日
特開 2017-206400 単結晶と原料融液との間の固液界面高さを求める方法及び単結晶の製造方法 2017年11月24日
特開 2017-206592 フッ素樹脂成形品の製造方法 2017年11月24日

120 件中 1-15 件を表示

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2017-226584 2017-228686 2017-228725 2017-224652 2017-224680 2017-224695 2017-218347 2017-219409 2017-220503 2017-220545 2017-220587 2017-212268 2017-206396 2017-206400 2017-206592

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