特許ランキング - 出願人詳細情報 -

信越半導体株式会社

※ ログインすれば出願人(信越半導体株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2020年出願公開件数ランキング　　　第459位　73件（2019年：第396位　96件）

　■　2020年特許取得件数ランキング　　　第364位　72件（2019年：第322位　84件）

（ランキング更新日：2024年11月22日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2021年 2022年 2023年 2024年

信越半導体株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特開 2020-205297	搬送システム	2020年12月24日
特開 2020-205386	半導体ウェーハ搬送治具およびそれを用いた搬送方法	2020年12月24日
特開 2020-202358	電子デバイス及びその製造方法	2020年12月17日
特開 2020-198383	抵抗率測定装置の管理方法	2020年12月10日
特開 2020-198420	エピタキシャルウェーハの製造方法及びサセプタ	2020年12月10日
特開 2020-192654	インゴットの切断方法	2020年12月 3日
特開 2020-194857	ウェーハ外周歪みの評価方法	2020年12月 3日
特開 2020-194899	半導体シリコンウェーハの製造方法	2020年12月 3日
特開 2020-189756	結晶成長装置及び結晶成長方法	2020年11月26日
特開 2020-191376	両面研磨装置用キャリアおよびその製造方法	2020年11月26日
特開 2020-185649	ワークの切断方法及びワイヤソー	2020年11月19日
特開 2020-185653	測定装置および研磨ヘッドの選定方法ならびにウエーハの研磨方法	2020年11月19日
特開 2020-188036	片面研磨方法	2020年11月19日
特開 2020-188046	プローブカード	2020年11月19日
特開 2020-188122	ナノトポロジー測定機の選定方法及び調整方法	2020年11月19日

73 件中 1-15 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2020-205297 2020-205386 2020-202358 2020-198383 2020-198420 2020-192654 2020-194857 2020-194899 2020-189756 2020-191376 2020-185649 2020-185653 2020-188036 2020-188046 2020-188122

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。信越半導体株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数