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カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー
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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第485位 63件
（
2023年：第628位 47件）
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第517位 51件
（2023年：第631位 40件）
（ランキング更新日：2025年2月21日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハーの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2024-178172 | 少なくとも１つの軸に沿って変位可能であり、かつ少なくとも１つの軸を中心に回転可能である試料ステージ上のフォトマスクのアライメントを決定するための方法および装置 | 2024年12月24日 | |
| 特開 2024-170372 | 計測システム用の光学系、およびそのような光学系を備える計測システム | 2024年12月10日 | |
| 特開 2024-170373 | 計測システム用の光学系、およびそのような光学系を備える計測システム | 2024年12月10日 | |
| 特表 2024-545131 | 操作可能光モジュールを校正するための方法 | 2024年12月 5日 | |
| 特表 2024-543141 | フォトマスクに対する動作を較正するための方法および装置 | 2024年11月19日 | |
| 特表 2024-542837 | レンズ用のマウント、アセンブリ、リソグラフィシステム、および方法 | 2024年11月15日 | |
| 特表 2024-542838 | 光学測定システムによる物体の照明および結像中の光学生成システムの照明および結像特性をシミュレートするための瞳絞り形状を最適化するための方法 | 2024年11月15日 | |
| 特表 2024-541842 | マルチミラーアレイ | 2024年11月13日 | |
| 特表 2024-541956 | トポグラフィ情報を提供するための高解像度低エネルギー電子顕微鏡およびマスク検査方法 | 2024年11月13日 | |
| 特開 2024-155892 | ＥＵＶマイクロリソグラフィ用のフォトマスクを検査するための測定デバイスおよび方法 | 2024年10月31日 | |
| 特開 2024-155893 | ＥＵＶマイクロリソグラフィ用のフォトマスクを検査するための測定装置および方法 | 2024年10月31日 | |
| 特開 2024-153619 | ＥＵＶリソグラフィ用マスクを検査するためのシステムおよび方法 | 2024年10月29日 | |
| 特開 2024-153689 | リソグラフィマスクの欠陥を修復する方法および装置 | 2024年10月29日 | |
| 特開 2024-150447 | 破壊的干渉によって少なくとも１つの目標波長を抑制するための光回折構成要素 | 2024年10月23日 | |
| 特開 2024-150511 | 測定又は検査装置及び表面を測定又は検査する方法 | 2024年10月23日 |
63 件中 1-15 件を表示
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2024-178172 2024-170372 2024-170373 2024-545131 2024-543141 2024-542837 2024-542838 2024-541842 2024-541956 2024-155892 2024-155893 2024-153619 2024-153689 2024-150447 2024-150511
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