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カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー

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カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハーの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特開 2024-178172	少なくとも１つの軸に沿って変位可能であり、かつ少なくとも１つの軸を中心に回転可能である試料ステージ上のフォトマスクのアライメントを決定するための方法および装置	2024年12月24日
特開 2024-170373	計測システム用の光学系、およびそのような光学系を備える計測システム	2024年12月10日
特開 2024-170372	計測システム用の光学系、およびそのような光学系を備える計測システム	2024年12月10日
特表 2024-545131	操作可能光モジュールを校正するための方法	2024年12月 5日
特表 2024-543141	フォトマスクに対する動作を較正するための方法および装置	2024年11月19日
特表 2024-542837	レンズ用のマウント、アセンブリ、リソグラフィシステム、および方法	2024年11月15日
特表 2024-542838	光学測定システムによる物体の照明および結像中の光学生成システムの照明および結像特性をシミュレートするための瞳絞り形状を最適化するための方法	2024年11月15日
特表 2024-541956	トポグラフィ情報を提供するための高解像度低エネルギー電子顕微鏡およびマスク検査方法	2024年11月13日
特表 2024-541842	マルチミラーアレイ	2024年11月13日
特開 2024-155893	ＥＵＶマイクロリソグラフィ用のフォトマスクを検査するための測定装置および方法	2024年10月31日
特開 2024-155892	ＥＵＶマイクロリソグラフィ用のフォトマスクを検査するための測定デバイスおよび方法	2024年10月31日
特開 2024-153689	リソグラフィマスクの欠陥を修復する方法および装置	2024年10月29日
特開 2024-153619	ＥＵＶリソグラフィ用マスクを検査するためのシステムおよび方法	2024年10月29日
特開 2024-150447	破壊的干渉によって少なくとも１つの目標波長を抑制するための光回折構成要素	2024年10月23日
特開 2024-150511	測定又は検査装置及び表面を測定又は検査する方法	2024年10月23日

62 件中 1-15 件を表示

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2024-178172 2024-170373 2024-170372 2024-545131 2024-543141 2024-542837 2024-542838 2024-541956 2024-541842 2024-155893 2024-155892 2024-153689 2024-153619 2024-150447 2024-150511

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