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■ 2015年 出願公開件数ランキング 第497位 67件
(2014年:第514位 67件)
■ 2015年 特許取得件数ランキング 第491位 50件
(2014年:第831位 35件)
(ランキング更新日:2025年10月10日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2015-158012 | シアン化物非含有酸性つや消し銀電気めっき組成物および方法 | 2015年 9月 3日 | |
特開 2015-156367 | ナノ構造材料積層体転移方法及びデバイス | 2015年 8月27日 | |
特開 2015-156474 | 高い結晶性の電気伝導性有機材料、それらの製造方法、及びそれらを含む物品 | 2015年 8月27日 | |
特開 2015-147761 | グアニジン化合物またはその塩、ポリエポキシドおよびポリハロゲンの反応生成物 | 2015年 8月20日 | |
特開 2015-149473 | パターン形成方法 | 2015年 8月20日 | |
特開 2015-145493 | 光酸発生共重合体および関連するフォトレジスト組成物、塗布基板、および電子デバイス形成方法 | 2015年 8月13日 | |
特開 2015-144255 | 導電性複合体、その製造方法およびそれを含む物品 | 2015年 8月 6日 | |
特開 2015-134345 | 転写膜を使用した三次元基体の像形成 | 2015年 7月27日 | |
特開 2015-134926 | 上塗りフォトレジストと共に使用するためのコーティング組成物 | 2015年 7月27日 | |
特開 2015-134964 | 送達デバイス、その製造方法、およびそれを含む物品 | 2015年 7月27日 | |
特開 2015-135490 | トップコート組成物およびフォトリソグラフィ法 | 2015年 7月27日 | |
特開 2015-135491 | フォトレジストパターントリミング組成物および方法 | 2015年 7月27日 | |
特開 2015-135492 | フォトレジストオーバーコート組成物 | 2015年 7月27日 | |
特開 2015-135527 | 液浸リソグラフィーのための組成物および方法 | 2015年 7月27日 | |
特開 2015-135983 | フォトレジストおよびその使用方法 | 2015年 7月27日 |
77 件中 16-30 件を表示
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2015-158012 2015-156367 2015-156474 2015-147761 2015-149473 2015-145493 2015-144255 2015-134345 2015-134926 2015-134964 2015-135490 2015-135491 2015-135492 2015-135527 2015-135983
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