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ケーエルエー−テンカー コーポレイション
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■ 2019年 出願公開件数ランキング 第411位 92件
（
2018年：第363位 103件）
■ 2019年 特許取得件数ランキング 第331位 81件
（
2018年：第358位 78件）
（ランキング更新日：2024年11月22日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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ケーエルエー−テンカー コーポレイションの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特表 2019-525401 | 高輝度でホウ素を含有する真空環境用電子ビームエミッタ | 2019年 9月 5日 | |
| 特表 2019-525450 | ニューラルネットワークと順物理モデルを半導体用途に組み込んだシステムおよび方法 | 2019年 9月 5日 | |
| 特表 2019-523874 | 同時多角度分光法 | 2019年 8月29日 | |
| 特表 2019-523884 | 高温プロセスアプリケーションにおいて測定パラメータを取得するためのカプセル化された計装基板装置 | 2019年 8月29日 | |
| 特表 2019-523981 | 照明ビームの位置ずれの補償のためのシステムおよび方法 | 2019年 8月29日 | |
| 特開 2019-145511 | 電子ビーム装置 | 2019年 8月29日 | |
| 特開 2019-145518 | 光維持プラズマを形成するための開放プラズマランプ | 2019年 8月29日 | |
| 特表 2019-522897 | 半導体用途のための、入力画像からのシミュレーション画像の生成 | 2019年 8月15日 | |
| 特表 2019-522352 | 半導体構造体の気孔率測定 | 2019年 8月 8日 | |
| 特表 2019-522362 | パターン配置及びパターンサイズ計測装置及び方法、並びにそのためのコンピュータプログラム | 2019年 8月 8日 | |
| 特開 2019-133176 | 深紫外線連続波レーザー、システム、及び方法 | 2019年 8月 8日 | |
| 特表 2019-521317 | ガス吸着を用いた限界寸法測定 | 2019年 7月25日 | |
| 特開 2019-117930 | 欠陥検出を強化するための最良の開口及びモードを発見するためのシステム及び方法 | 2019年 7月18日 | |
| 特表 2019-519759 | 小スポットサイズ透過型小角Ｘ線スキャタロメトリ用ビーム整形スリット | 2019年 7月11日 | |
| 特表 2019-519887 | レーザ維持プラズマ光源のＶＵＶ輻射性放射を阻害するシステム及び方法 | 2019年 7月11日 |
92 件中 31-45 件を表示
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2019-525401 2019-525450 2019-523874 2019-523884 2019-523981 2019-145511 2019-145518 2019-522897 2019-522352 2019-522362 2019-133176 2019-521317 2019-117930 2019-519759 2019-519887
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