ホーム > 特許ランキング > ケーエルエー−テンカー コーポレイション > 2019年 > 特許一覧
※ ログインすれば出願人(ケーエルエー−テンカー コーポレイション)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2019年 出願公開件数ランキング 第411位 92件
(2018年:第363位 103件)
■ 2019年 特許取得件数ランキング 第331位 81件
(2018年:第358位 78件)
(ランキング更新日:2025年9月1日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年
公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 6566968 | 半導体パラメータを測定するための装置、技術、およびターゲットデザイン | 2019年 8月28日 | |
特許 6562420 | ウェハ検査システム | 2019年 8月21日 | |
特許 6552513 | 明視野検査、暗視野検査、光熱検査を組み合わせた装置及び方法 | 2019年 7月31日 | |
特許 6553145 | オーバレイ誤差を決定する方法 | 2019年 7月31日 | |
特許 6553146 | レーザー維持プラズマ光源向けプラズマ・セル | 2019年 7月31日 | |
特許 6553281 | 検査システム | 2019年 7月31日 | |
特許 6548651 | 低ノイズセンサおよび低ノイズセンサを用いた検査システム | 2019年 7月24日 | |
特許 6549220 | 走査型電子顕微鏡および試料を検査およびレビューする方法 | 2019年 7月24日 | |
特許 6550470 | スポット走査型ウェハ検査システムのランタイムアライメントシステム及び方法 | 2019年 7月24日 | |
特許 6545154 | 電子ビーム検査及びレビューにおける向上した欠陥検出 | 2019年 7月17日 | |
特許 6545164 | ウェハ検査プロセスの1つ以上のパラメータを決定するための方法、コンピュータ読み出し可能な媒体およびシステム | 2019年 7月17日 | |
特許 6545750 | レーザパルスマルチプライヤを用いた半導体検査および計測システム | 2019年 7月17日 | |
特許 6546979 | 周波数変換結晶アニール方法 | 2019年 7月17日 | |
特許 6532479 | スキャタロメトリ計測法を用いた焦点測定 | 2019年 6月19日 | |
特許 6529432 | サンプル検査とレビューのためのシステム | 2019年 6月12日 |
81 件中 31-45 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
6566968 6562420 6552513 6553145 6553146 6553281 6548651 6549220 6550470 6545154 6545164 6545750 6546979 6532479 6529432
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。ケーエルエー−テンカー コーポレイションの知財の動向チェックに便利です。
9月2日(火) -
9月2日(火) -
9月2日(火) - 東京 港区
9月3日(水) -
9月3日(水) -
9月4日(木) - 大阪 大阪市
9月4日(木) -
9月4日(木) - 大阪 大阪市
9月5日(金) -
9月5日(金) -
9月6日(土) -
9月2日(火) -
9月10日(水) - 東京 港区
9月10日(水) -
9月11日(木) - 東京 江東区
9月11日(木) - 広島 広島
ますます頼りにされる商標担当者になるための3つのポイント ~ 社内の商標相談にサクサクと答えられるエッセンスを教えます ~
9月12日(金) -
9月12日(金) -
京都市東山区泉涌寺門前町26番地 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
〒195-0074 東京都町田市山崎町1089-10 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 鑑定 コンサルティング
〒445-0802 愛知県西尾市米津町蓮台6-10 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング