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■ 2020年 出願公開件数ランキング 第364位 101件 (2019年:第411位 92件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特表 2020-515077 | 確率性を仮定した計量および加工 | 2020年 5月21日 | |
特開 2020-77007 | 極紫外光を発生させる装置 | 2020年 5月21日 | |
特開 2020-73888 | 角度分解反射率測定における走査および回折の光計測からのアルゴリズム的除去 | 2020年 5月14日 | |
特開 2020-73935 | 試料の欠陥検出及び光ルミネセンス測定のための系及び方法 | 2020年 5月14日 | |
特開 2020-74307 | ナノ構造の反射防止層を有する光源、装置、及び方法 | 2020年 5月14日 | |
特開 2020-74329 | 電子ビーム画像化装置及び方法 | 2020年 5月14日 | |
特開 2020-74331 | 電子衝撃検出器を動作させる方法 | 2020年 5月14日 | |
特開 2020-74387 | 計測標的の偏光測定及び対応する標的設計 | 2020年 5月14日 | |
特開 2020-64063 | 半導体デバイスの検査または計測を実行するための光学装置及び方法 | 2020年 4月23日 | |
特開 2020-65056 | 光学検査システム、光学検査方法、及びレーザー | 2020年 4月23日 | |
特開 2020-61575 | 高次元変数選択モデルを使用した重要なパラメータの決定システム | 2020年 4月16日 | |
特表 2020-510857 | 散乱計測測定における格子の非対称性に関連する不正確性の軽減 | 2020年 4月 9日 | |
特表 2020-510864 | 2つのフォトマスクを比較することによるフォトマスクの検査 | 2020年 4月 9日 | |
特表 2020-511003 | オーバレイ計量データの確率論的挙動の影響の判別 | 2020年 4月 9日 | |
特開 2020-56795 | 光計測において照明を提供するためのシステム | 2020年 4月 9日 |
101 件中 61-75 件を表示
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2020-515077 2020-77007 2020-73888 2020-73935 2020-74307 2020-74329 2020-74331 2020-74387 2020-64063 2020-65056 2020-61575 2020-510857 2020-510864 2020-511003 2020-56795
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