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■ 2020年 出願公開件数ランキング 第364位 101件 (2019年:第411位 92件)
■ 2020年 特許取得件数ランキング 第314位 86件 (2019年:第331位 81件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2020-57008 | デバイスの特性の予測方法及びシステム | 2020年 4月 9日 | |
特表 2020-510195 | 光学散乱計測に基づくプロセスに対してロバストなオーバーレイ計測 | 2020年 4月 2日 | |
特開 2020-52428 | 光源持続プラズマセルにおける収差を補正するための装置及び方法 | 2020年 4月 2日 | |
特開 2020-45277 | 非線形光学結晶の不動態化 | 2020年 3月26日 | |
特表 2020-508568 | 厚膜及び高アスペクト比構造の計測方法及びシステム | 2020年 3月19日 | |
特表 2020-507928 | 製品製造中のプロセス変動の識別 | 2020年 3月12日 | |
特表 2020-506401 | 小角X線スキャタロメトリ用X線ズームレンズ | 2020年 2月27日 | |
特表 2020-506552 | 三次元半導体ウェハ上の埋没欠陥を測定するための3次元較正構造及び方法 | 2020年 2月27日 | |
特表 2020-506558 | 基板及び膜厚分布計測システム及び方法 | 2020年 2月27日 | |
特開 2020-30218 | 半導体ウェハ検査及び計量システム及び方法 | 2020年 2月27日 | |
特表 2020-505607 | 分光組成分析のためのウェハ粒子欠陥の活性化 | 2020年 2月20日 | |
特表 2020-505647 | 非ゼロオフセット予測を伴うオーバレイ制御 | 2020年 2月20日 | |
特表 2020-505728 | 電子源のための引出し器電極 | 2020年 2月20日 | |
特表 2020-505747 | マルチカラム走査電子顕微鏡法システム | 2020年 2月20日 | |
特開 2020-25126 | イメージングシステム | 2020年 2月13日 |
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2020-57008 2020-510195 2020-52428 2020-45277 2020-508568 2020-507928 2020-506401 2020-506552 2020-506558 2020-30218 2020-505607 2020-505647 2020-505728 2020-505747 2020-25126
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11月22日(金) -
11月22日(金) - 東京 千代田区
11月22日(金) - 東京 港区
11月22日(金) -
11月22日(金) - 大阪 大阪市
11月22日(金) -
11月22日(金) -
11月25日(月) -
11月25日(月) - 岐阜 各務原市
11月26日(火) -
11月26日(火) - 東京 港区
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月27日(水) - 東京 港区
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月28日(木) - 東京 港区
11月28日(木) - 島根 松江市
11月28日(木) - 京都 京都市
11月28日(木) -
11月28日(木) - 大阪 大阪市
11月28日(木) -
11月29日(金) - 東京 港区
11月29日(金) - 茨城 ひたちなか市
11月30日(土) -
12月1日(日) -
12月1日(日) -
11月25日(月) -
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