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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第304位 96件 (2023年:第332位 104件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 7535115 | 軟X線スキャタロメトリに依拠するオーバレイ計測方法及びシステム | 2024年 8月15日 | |
特許 7530920 | テスト用フォトマスクを用いるTDIイメージセンサ向けEUVインサイチュー直線性校正 | 2024年 8月 8日 | |
特許 7531030 | オーバレイ計測システム及び方法 | 2024年 8月 8日 | |
特許 7527400 | オーバーレイ計測ツールおよび方法 | 2024年 8月 2日 | |
特許 7525735 | 磁気液浸電子銃 | 2024年 7月30日 | |
特許 7523682 | 半導体デバイス製造方法及び半導体製造アセンブリ用プロセス制御システム | 2024年 7月26日 | |
特許 7520058 | マルチステージマルチゾーン基板位置決めシステム | 2024年 7月22日 | |
特許 7508659 | 空間的に変化する偏光回転子および偏光子を用いた高感度粒子検出 | 2024年 7月 1日 | |
特許 7506756 | 位置ずれ測定値に対するウェハ傾斜の影響の補正のためのシステムおよび方法 | 2024年 6月26日 | |
特許 7503140 | 高圧流れを有するレーザ維持プラズマ光源 | 2024年 6月19日 | |
特許 7502389 | 試料の欠陥検出及び光ルミネセンス測定のためのシステム及び方法 | 2024年 6月18日 | |
特許 7502530 | ターゲット | 2024年 6月18日 | |
特許 7500694 | 計測ターゲット設計の方法、計測モジュール、及び計測ターゲットの製造方法 | 2024年 6月17日 | |
特許 7498771 | プラズモニック光電陰極放出器 | 2024年 6月12日 | |
特許 7498856 | 位置ずれの散乱計測による単一波長測定およびその改良のためのシステムおよび方法 | 2024年 6月12日 |
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7535115 7530920 7531030 7527400 7525735 7523682 7520058 7508659 7506756 7503140 7502389 7502530 7500694 7498771 7498856
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11月13日(水) - 東京 港区
11月13日(水) - 福井 福井市
11月13日(水) -
11月13日(水) -
11月13日(水) -
11月13日(水) -
11月14日(木) - 東京 港区
11月14日(木) - 愛知 名古屋市
11月14日(木) - 東京 中央区
11月15日(金) - 東京 港区
11月15日(金) -
11月15日(金) - 東京 港区
11月15日(金) -
11月15日(金) -
11月16日(土) - 東京 中央区
11月13日(水) - 東京 港区
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11月19日(火) -
11月19日(火) - 東京 港区
11月19日(火) - 大阪 大阪市
11月19日(火) -
11月20日(水) -
11月20日(水) -
11月20日(水) -
11月20日(水) -
11月20日(水) -
11月21日(木) - 東京 港区
11月21日(木) - 愛知 名古屋市
11月21日(木) -
11月21日(木) -
11月22日(金) -
11月22日(金) - 東京 千代田区
11月22日(金) - 東京 港区
11月22日(金) -
11月22日(金) - 大阪 大阪市
11月22日(金) -
11月18日(月) -
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