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ケーエルエー−テンカー コーポレイション

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  2024年 出願公開件数ランキング    第298位 100件 上昇2023年:第332位 104件)

  2024年 特許取得件数ランキング    第294位 93件 上昇2023年:第345位 92件)

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特許 7570527 デュアルアパーチャ方式の高解像度電子ビーム装置 2024年10月21日
特許 7569938 オンザフライ散乱計測オーバーレイ計測ターゲット 2024年10月18日
特許 7569379 ウェーハモデルを使用するウェーハ露光方法及びウェーハ製造アセンブリ 2024年10月17日
特許 7568639 設定可能焦点オフセットによって試料表面を追跡するための自動焦点調節システム 2024年10月16日
特許 7561793 半導体試料内の瑕疵を検出又は精査するシステム 2024年10月 4日
特許 7561882 半導体製造プロセスで使用される敏感な層の試料損傷を防いで走査型電子顕微鏡撮像を可能にする方法 2024年10月 4日
特許 7557546 試験サンプルの温度変調特性の測定 2024年 9月27日
特許 7557590 透過型小角X線散乱計量システム及び方法 2024年 9月27日
特許 7553482 洗浄基板によるインシトゥプロセスチャンバチャック洗浄 2024年 9月18日
特許 7553533 三次元半導体構造を可視化するコンピュータ可読記憶媒体 2024年 9月18日
特許 7547625 半導体ウェハ計測における測定位置を決定するためのシステムおよび方法 2024年 9月 9日
特許 7545412 X線計量データセット同士を結合させることでパラメタ推定を改善する方法及びシステム 2024年 9月 4日
特許 7544781 傾斜周期構造を有する計測ターゲット及び方法 2024年 9月 3日
特許 7544848 ガス渦流を有するレーザ強化プラズマ光源 2024年 9月 3日
特許 7543560 高度な反りサンプルの表面プロファイル計測 2024年 9月 2日

93 件中 16-30 件を表示

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7570527 7569938 7569379 7568639 7561793 7561882 7557546 7557590 7553482 7553533 7547625 7545412 7544781 7544848 7543560

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