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■ 2025年 出願公開件数ランキング 第345位 58件
(2024年:第311位 105件)
■ 2025年 特許取得件数ランキング 第263位 73件
(2024年:第286位 108件)
(ランキング更新日:2025年8月25日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 7703055 | 改善されたオーバーレイ誤差計測のための誘起変位 | 2025年 7月 4日 | |
特許 7701944 | 重複構造上での後方散乱電子をモデル化することによりオーバレイを計測するためのターゲット及びアルゴリズム | 2025年 7月 2日 | |
特許 7700238 | ポストボンディングオーバーレイを測定するシステムおよび方法 | 2025年 6月30日 | |
特許 7698738 | マルチダイマスクの欠陥検出 | 2025年 6月25日 | |
特許 7698745 | 荷電粒子ツールのためのバンドパス荷電粒子エネルギフィルタリング検出器 | 2025年 6月25日 | |
特許 7696888 | 走査型電子顕微法アプリケーション用センサモジュール | 2025年 6月23日 | |
特許 7688717 | 熱膨張によるミスマッチの緩和するプロセス状態検出装置および方法 | 2025年 6月 4日 | |
特許 7684413 | 回転運動、真空シール、および圧力シールのための垂直回旋金属ベローズ | 2025年 5月27日 | |
特許 7684461 | 電子ビーム計測の系統誤差低減方法及びシステム | 2025年 5月27日 | |
特許 7676437 | 標本走査のためのフォーカス設定の決定 | 2025年 5月14日 | |
特許 7676570 | 静電基板洗浄システム、装置および方法 | 2025年 5月14日 | |
特許 7675741 | 裏面照射型センサおよびシリコンオンインシュレータウエハを使用するセンサの製造方法 | 2025年 5月13日 | |
特許 7675793 | 検査システム | 2025年 5月13日 | |
特許 7675825 | 集積回路を製造するための方法およびシステム | 2025年 5月13日 | |
特許 7675828 | 計測のための瞳面ビーム走査 | 2025年 5月13日 |
73 件中 16-30 件を表示
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7703055 7701944 7700238 7698738 7698745 7696888 7688717 7684413 7684461 7676437 7676570 7675741 7675793 7675825 7675828
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