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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第304位 96件 (2023年:第332位 104件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 7568639 | 設定可能焦点オフセットによって試料表面を追跡するための自動焦点調節システム | 2024年10月16日 | |
特許 7561793 | 半導体試料内の瑕疵を検出又は精査するシステム | 2024年10月 4日 | |
特許 7561882 | 半導体製造プロセスで使用される敏感な層の試料損傷を防いで走査型電子顕微鏡撮像を可能にする方法 | 2024年10月 4日 | |
特許 7557546 | 試験サンプルの温度変調特性の測定 | 2024年 9月27日 | |
特許 7557590 | 透過型小角X線散乱計量システム及び方法 | 2024年 9月27日 | |
特許 7553482 | 洗浄基板によるインシトゥプロセスチャンバチャック洗浄 | 2024年 9月18日 | |
特許 7553533 | 三次元半導体構造を可視化するコンピュータ可読記憶媒体 | 2024年 9月18日 | |
特許 7547625 | 半導体ウェハ計測における測定位置を決定するためのシステムおよび方法 | 2024年 9月 9日 | |
特許 7545412 | X線計量データセット同士を結合させることでパラメタ推定を改善する方法及びシステム | 2024年 9月 4日 | |
特許 7544781 | 傾斜周期構造を有する計測ターゲット及び方法 | 2024年 9月 3日 | |
特許 7544848 | ガス渦流を有するレーザ強化プラズマ光源 | 2024年 9月 3日 | |
特許 7543560 | 高度な反りサンプルの表面プロファイル計測 | 2024年 9月 2日 | |
特許 7542561 | 位置ずれの測定およびその改善のための関心領域の選択 | 2024年 8月30日 | |
特許 7539467 | 計測ランドスケープに基づく計測最適化のためのシステムおよび方法 | 2024年 8月23日 | |
特許 7538881 | 液体窒素のための自己整列式真空フィードスルー | 2024年 8月22日 |
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7568639 7561793 7561882 7557546 7557590 7553482 7553533 7547625 7545412 7544781 7544848 7543560 7542561 7539467 7538881
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11月13日(水) -
11月13日(水) -
11月13日(水) -
11月13日(水) -
11月14日(木) - 東京 港区
11月14日(木) - 愛知 名古屋市
11月14日(木) - 東京 中央区
11月15日(金) - 東京 港区
11月15日(金) -
11月15日(金) - 東京 港区
11月15日(金) -
11月15日(金) -
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11月13日(水) - 東京 港区
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11月19日(火) - 東京 港区
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11月20日(水) -
11月20日(水) -
11月20日(水) -
11月21日(木) - 東京 港区
11月21日(木) - 愛知 名古屋市
11月21日(木) -
11月21日(木) -
11月22日(金) -
11月22日(金) - 東京 千代田区
11月22日(金) - 東京 港区
11月22日(金) -
11月22日(金) - 大阪 大阪市
11月22日(金) -
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