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■ 2025年 出願公開件数ランキング 第345位 58件
(2024年:第311位 105件)
■ 2025年 特許取得件数ランキング 第263位 73件
(2024年:第286位 108件)
(ランキング更新日:2025年8月25日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 7644721 | 極端紫外線計測のための光学的エタンデュ整合方法及びシステム | 2025年 3月12日 | |
特許 7642797 | 三次元ウェハ構造向けビニング増強欠陥検出方法 | 2025年 3月10日 | |
特許 7642804 | 画像ベースのオーバレイ計測においてターゲット特徴焦点を決定するためのシステムおよび方法 | 2025年 3月10日 | |
特許 7642045 | プロセス条件計測ウェハアセンブリ向けのシステム及び方法 | 2025年 3月 7日 | |
特許 7642081 | プラズマ原子層堆積を用い堆積された硼素層を有する裏面照明型センサ | 2025年 3月 7日 | |
特許 7639111 | 検査システム及び方法 | 2025年 3月 4日 | |
特許 7638230 | 極端紫外マスク検査システムの波面収差計量 | 2025年 3月 3日 | |
特許 7637791 | インライン欠陥部分平均試験を使用する適応的半導体試験のためのシステムおよび方法 | 2025年 2月28日 | |
特許 7637054 | 非円形瞳を有する検査システム | 2025年 2月27日 | |
特許 7637147 | 半導体デバイス内潜在的信頼性欠陥識別システム及び方法 | 2025年 2月27日 | |
特許 7635385 | 広帯域光の連続生成のためのレーザおよびドラム制御 | 2025年 2月25日 | |
特許 7634579 | ウェハ検査システム | 2025年 2月21日 | |
特許 7634078 | フリンジモアレと光モアレ効果を使用した位置ずれ計測 | 2025年 2月20日 | |
特許 7634124 | 高効率レーザー維持プラズマシステム | 2025年 2月20日 | |
特許 7631504 | リピータ欠陥検出のための教師なし学習 | 2025年 2月18日 |
73 件中 46-60 件を表示
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7644721 7642797 7642804 7642045 7642081 7639111 7638230 7637791 7637054 7637147 7635385 7634579 7634078 7634124 7631504
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