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■ 2025年 出願公開件数ランキング 第339位 79件
(
2024年:第311位 105件)
■ 2025年 特許取得件数ランキング 第276位 86件
(
2024年:第286位 108件)
(ランキング更新日:2025年10月27日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7675179 | 画像ハッシュを用いた教師なしパターン同義物検出 | 2025年 5月12日 | |
| 特許 7675204 | 結像条件を推定し改善するための画像コントラストメトリック | 2025年 5月12日 | |
| 特許 7674503 | パターンウエハ形状測定上の検出支援2段階位相アンラッピング | 2025年 5月 9日 | |
| 特許 7668369 | 半導体欠陥誘導バーンインおよびシステムレベル試験のためのシステムおよび方法 | 2025年 4月24日 | |
| 特許 7667884 | ターゲットの配置精度を向上させるためのオーバーレイターゲットの設計 | 2025年 4月23日 | |
| 特許 7667184 | ウェハアライメントのためのシステム、方法、及びターゲット | 2025年 4月22日 | |
| 特許 7665036 | 高抵抗率試験試料を測定する方法 | 2025年 4月18日 | |
| 特許 7664405 | 半導体ダイパッケージの信頼性を評価するためのシステムおよび方法 | 2025年 4月17日 | |
| 特許 7662805 | マルチフィールド走査オーバレイ計測 | 2025年 4月15日 | |
| 特許 7661309 | モアレ要素及び回転対称配列を用いるイメージングオーバレイターゲット | 2025年 4月14日 | |
| 特許 7656031 | 可解釈な深層学習ベース欠陥検出及び分類 | 2025年 4月 2日 | |
| 特許 7653445 | 接合されたウェハのオーバレイ計測 | 2025年 3月28日 | |
| 特許 7645831 | 照明源及びプラズマ光源 | 2025年 3月14日 | |
| 特許 7644721 | 極端紫外線計測のための光学的エタンデュ整合方法及びシステム | 2025年 3月12日 | |
| 特許 7642797 | 三次元ウェハ構造向けビニング増強欠陥検出方法 | 2025年 3月10日 |
86 件中 46-60 件を表示
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7675179 7675204 7674503 7668369 7667884 7667184 7665036 7664405 7662805 7661309 7656031 7653445 7645831 7644721 7642797
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日常実務の疑問点に答える著作権(周辺領域の商標・不正競争防止法を含む)に関するQ&A~日常業務において、判断に迷う・知らずして間違いを犯しがちなケースを取り上げて、Q&A形式で平易に解説~
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