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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 7490762 | 計測のための信号-領域適応 | 2024年 5月27日 | |
特許 7490094 | 機械学習を用いた半導体オーバーレイ測定 | 2024年 5月24日 | |
特許 7489404 | 光学被覆材料としての四ホウ酸ストロンチウム | 2024年 5月23日 | |
特許 7489508 | 検査システムにおける輻射誘起性偽カウントを低減するシステム | 2024年 5月23日 | |
特許 7486621 | X線スキャトロメトリシステムのフルビーム計測 | 2024年 5月17日 | |
特許 7483761 | 光源のキャビティの圧力制御 | 2024年 5月15日 | |
特許 7482981 | 光計測において照明を提供するためのシステム | 2024年 5月14日 | |
特許 7483021 | マルチ電子ビームシステム用のマイクロスティグマトールアレイ | 2024年 5月14日 | |
特許 7482193 | 広帯域レーザ産生プラズマイルミネータを有するX線計量システム及び方法 | 2024年 5月13日 | |
特許 7478738 | 計測システム及び方法 | 2024年 5月 7日 | |
特許 7477564 | ホットスポット及びプロセスウィンドウ監視装置 | 2024年 5月 1日 | |
特許 7470827 | 円筒対称要素上を覆うターゲット素材を有するレーザ生成プラズマ光源 | 2024年 4月18日 | |
特許 7470120 | 電圧コントラストウェーハ検査におけるフラッド帯電及び像形成のための共同電子光学カラム | 2024年 4月17日 | |
特許 7464794 | サンプル位置決めシステム及び方法 | 2024年 4月 9日 | |
特許 7462639 | システム応答のリアルタイム検出及び補正 | 2024年 4月 5日 |
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7490762 7490094 7489404 7489508 7486621 7483761 7482981 7483021 7482193 7478738 7477564 7470827 7470120 7464794 7462639
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11月21日(木) -
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11月22日(金) - 東京 港区
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