特許ランキング - 出願人詳細情報 -

エーエスエムエル　ネザーランズ　ビー．ブイ．

※ ログインすれば出願人(エーエスエムエル　ネザーランズ　ビー．ブイ．)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2018年出願公開件数ランキング　　　第314位　124件（2017年：第379位　113件）

　■　2018年特許取得件数ランキング　　　第281位　102件（2017年：第305位　95件）

（ランキング更新日：2025年2月18日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年

エーエスエムエル　ネザーランズ　ビー．ブイ．の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特表 2018-536199	リソグラフィ装置のためのＥＵＶソースチャンバーおよびガス流れ様式、多層ミラー、およびリソグラフィ装置	2018年12月 6日
特開 2018-194847	プロセスウィンドウを最適化する方法	2018年12月 6日
特開 2018-194854	リソグラフィ装置	2018年12月 6日
特開 2018-194860	放射源およびリソグラフィのための方法	2018年12月 6日
特表 2018-534598	減衰装置及び方法	2018年11月22日
特表 2018-534623	インプリント装置	2018年11月22日
特表 2018-534893	ローレンツアクチュエータ、オブジェクト位置決めシステム、リソグラフィ装置、及びローレンツアクチュエータ動作方法	2018年11月22日
特開 2018-185523	レーザビームパルスのタイミングを調整して極端紫外線光注入を調節する方法	2018年11月22日
特開 2018-185534	リソグラフィ方法	2018年11月22日
特開 2018-185548	ターゲット材料の供給および回収のための方法ならびに装置	2018年11月22日
特表 2018-533753	光学アイソレーションモジュール	2018年11月15日
特表 2018-533763	リソグラフィ装置用基板テーブル、および基板の装填方法	2018年11月15日
特表 2018-533053	２次元又は３次元の形状の階層的表現	2018年11月 8日
特表 2018-532138	極端紫外光源におけるターゲット膨張率制御	2018年11月 1日
特表 2018-531407	トポグラフィ測定システム	2018年10月25日

128 件中 16-30 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2018-536199 2018-194847 2018-194854 2018-194860 2018-534598 2018-534623 2018-534893 2018-185523 2018-185534 2018-185548 2018-533753 2018-533763 2018-533053 2018-532138 2018-531407

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。エーエスエムエル　ネザーランズ　ビー．ブイ．の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数