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エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ．
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■ 2018年 出願公開件数ランキング 第314位 124件
（
2017年：第379位 113件）
■ 2018年 特許取得件数ランキング 第281位 102件
（2017年：第305位 95件）
（ランキング更新日：2025年4月15日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ．の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6374958 | ＥＵＶ光学リソグラフィ装置用の放射源及び当該放射源を備えるリソグラフィ装置 | 2018年 8月15日 | |
| 特許 6371473 | 照明システム | 2018年 8月 8日 | |
| 特許 6371865 | リソグラフィ装置及びリソグラフィ装置を製造する方法 | 2018年 8月 8日 | |
| 特許 6371869 | リソグラフィ装置を修正する方法 | 2018年 8月 8日 | |
| 特許 6366823 | オブジェクトテーブル、リソグラフィ装置、及びデバイス製造方法 | 2018年 8月 1日 | |
| 特許 6367382 | リソグラフィ装置、対象物位置決めシステムおよびデバイス製造方法 | 2018年 8月 1日 | |
| 特許 6363217 | 制御システム、位置決めシステム、リソグラフィ装置、制御方法、デバイス製造方法及び制御プログラム | 2018年 7月25日 | |
| 特許 6359565 | 静電クランプ | 2018年 7月18日 | |
| 特許 6352481 | 流体ハンドリング構造、リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 | 2018年 7月 4日 | |
| 特許 6347817 | リソグラフィ装置 | 2018年 6月27日 | |
| 特許 6347849 | センサシステム、基板ハンドリングシステムおよびリソグラフィ装置 | 2018年 6月27日 | |
| 特許 6346296 | メトロロジー方法及び装置、基板、リソグラフィシステム並びにデバイス製造方法 | 2018年 6月20日 | |
| 特許 6346297 | 任意パターンにおける確率的変動を計算するためのモデル | 2018年 6月20日 | |
| 特許 6342486 | 偏光非依存干渉計 | 2018年 6月13日 | |
| 特許 6342492 | 光学スイッチを用いたリターンビームメトロロジのためのシステムおよび方法 | 2018年 6月13日 |
105 件中 46-60 件を表示
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6374958 6371473 6371865 6371869 6366823 6367382 6363217 6359565 6352481 6347817 6347849 6346296 6346297 6342486 6342492
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