特許ランキング - 出願人詳細情報 -

エーエスエムエル　ネザーランズ　ビー．ブイ．

※ ログインすれば出願人(エーエスエムエル　ネザーランズ　ビー．ブイ．)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2018年出願公開件数ランキング　　　第314位　124件（2017年：第379位　113件）

　■　2018年特許取得件数ランキング　　　第281位　102件（2017年：第305位　95件）

（ランキング更新日：2024年11月22日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年

エーエスエムエル　ネザーランズ　ビー．ブイ．の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特許 6374958	ＥＵＶ光学リソグラフィ装置用の放射源及び当該放射源を備えるリソグラフィ装置	2018年 8月15日
特許 6371473	照明システム	2018年 8月 8日
特許 6371865	リソグラフィ装置及びリソグラフィ装置を製造する方法	2018年 8月 8日
特許 6371869	リソグラフィ装置を修正する方法	2018年 8月 8日
特許 6366823	オブジェクトテーブル、リソグラフィ装置、及びデバイス製造方法	2018年 8月 1日
特許 6367382	リソグラフィ装置、対象物位置決めシステムおよびデバイス製造方法	2018年 8月 1日
特許 6363217	制御システム、位置決めシステム、リソグラフィ装置、制御方法、デバイス製造方法及び制御プログラム	2018年 7月25日
特許 6359565	静電クランプ	2018年 7月18日
特許 6352481	流体ハンドリング構造、リソグラフィ装置およびデバイス製造方法	2018年 7月 4日
特許 6347817	リソグラフィ装置	2018年 6月27日
特許 6347849	センサシステム、基板ハンドリングシステムおよびリソグラフィ装置	2018年 6月27日
特許 6346296	メトロロジー方法及び装置、基板、リソグラフィシステム並びにデバイス製造方法	2018年 6月20日
特許 6346297	任意パターンにおける確率的変動を計算するためのモデル	2018年 6月20日
特許 6342486	偏光非依存干渉計	2018年 6月13日
特許 6342492	光学スイッチを用いたリターンビームメトロロジのためのシステムおよび方法	2018年 6月13日

105 件中 46-60 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

6374958 6371473 6371865 6371869 6366823 6367382 6363217 6359565 6352481 6347817 6347849 6346296 6346297 6342486 6342492

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。エーエスエムエル　ネザーランズ　ビー．ブイ．の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数