特許ランキング - 出願人詳細情報 -

エーエスエムエル　ネザーランズ　ビー．ブイ．

※ ログインすれば出願人(エーエスエムエル　ネザーランズ　ビー．ブイ．)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2018年出願公開件数ランキング　　　第314位　124件（2017年：第379位　113件）

　■　2018年特許取得件数ランキング　　　第281位　102件（2017年：第305位　95件）

（ランキング更新日：2024年11月22日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年

エーエスエムエル　ネザーランズ　ビー．ブイ．の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特許 6400827	リソグラフィ装置およびデバイス製造方法	2018年10月 3日
特許 6395832	放射源用コンポーネント、関連した放射源およびリソグラフィ装置	2018年 9月26日
特許 6396483	リソグラフィにおける対象物の位置決め	2018年 9月26日
特許 6397008	リソグラフィ装置、リソグラフィ装置で使用するための位置決めシステム、および方法	2018年 9月26日
特許 6397884	レーザ生成プラズマ極端紫外線光源のターゲット	2018年 9月26日
特許 6393397	リソグラフィ装置の照射線量決定方法、検査装置およびデバイス製造方法	2018年 9月19日
特許 6388869	極紫外光源のためのビューポートプロテクタ	2018年 9月12日
特許 6389898	コイルアセンブリ、電磁アクチュエータ、ステージ位置決め装置、リソグラフィ装置およびデバイス製造方法	2018年 9月12日
特許 6386569	プロセスウィンドウを最適化する方法	2018年 9月 5日
特許 6387421	リソグラフィ装置及びデバイス製造方法	2018年 9月 5日
特許 6382298	リソグラフィ装置	2018年 8月29日
特許 6382856	ＥＵＶリソグラフィー用の光学素子及び光学系、及びこの光学系を処理する方法	2018年 8月29日
特許 6377187	リソグラフィのためのメトロロジ	2018年 8月22日
特許 6374481	極端紫外線光源のビーム位置制御を行うシステム又は方法	2018年 8月15日
特許 6374493	リソグラフィ方法	2018年 8月15日

105 件中 31-45 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

6400827 6395832 6396483 6397008 6397884 6393397 6388869 6389898 6386569 6387421 6382298 6382856 6377187 6374481 6374493

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。エーエスエムエル　ネザーランズ　ビー．ブイ．の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数