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エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ．
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■ 2018年 出願公開件数ランキング 第314位 124件
（
2017年：第379位 113件）
■ 2018年 特許取得件数ランキング 第281位 102件
（2017年：第305位 95件）
（ランキング更新日：2025年4月15日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ．の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6420839 | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 | 2018年11月 7日 | |
| 特許 6420864 | スペクトル純度フィルタ、放射システム、及びコレクタ | 2018年11月 7日 | |
| 特許 6420895 | リソグラフィ装置及び物体位置決めシステム | 2018年11月 7日 | |
| 特許 6420900 | リソグラフィ装置用の支持テーブル、基板をロードする方法、リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 | 2018年11月 7日 | |
| 特許 6421237 | メトロロジー方法、ターゲット、及び基板 | 2018年11月 7日 | |
| 特許 6416129 | 放射源コレクタ及び製造方法 | 2018年10月31日 | |
| 特許 6410723 | リソグラフィ装置 | 2018年10月24日 | |
| 特許 6412015 | レーザビームパルスのタイミングを調整して極端紫外線光注入を調節する方法 | 2018年10月24日 | |
| 特許 6412163 | メトロロジーに用いられる基板及びパターニングデバイス、メトロロジー方法、及びデバイス製造方法 | 2018年10月24日 | |
| 特許 6408578 | 極端紫外光源 | 2018年10月17日 | |
| 特許 6408610 | メトロロジターゲットの設計方法、メトロロジターゲットを有する基板、オーバーレイの測定方法、およびデバイス製造方法 | 2018年10月17日 | |
| 特許 6408720 | リソグラフィ装置及びリソグラフィプロセスにおける方法 | 2018年10月17日 | |
| 特許 6409076 | パルス光ビームのスペクトル特徴推定 | 2018年10月17日 | |
| 特許 6401283 | ＥＵＶ光源内でターゲット材料の液滴を制御するためのシステム及び方法 | 2018年10月10日 | |
| 特許 6403362 | レーザ生成プラズマＥＵＶ光源 | 2018年10月10日 |
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6420839 6420864 6420895 6420900 6421237 6416129 6410723 6412015 6412163 6408578 6408610 6408720 6409076 6401283 6403362
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