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エーエスエムエル　ネザーランズ　ビー．ブイ．

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エーエスエムエル　ネザーランズ　ビー．ブイ．の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特許 6420900	リソグラフィ装置用の支持テーブル、基板をロードする方法、リソグラフィ装置及びデバイス製造方法	2018年11月 7日
特許 6420895	リソグラフィ装置及び物体位置決めシステム	2018年11月 7日
特許 6420864	スペクトル純度フィルタ、放射システム、及びコレクタ	2018年11月 7日
特許 6420839	リソグラフィ装置及びデバイス製造方法	2018年11月 7日
特許 6417418	電子入射器、自由電子レーザ、リソグラフィシステム、電子ビーム生成方法、及び放射生成方法	2018年11月 7日
特許 6416129	放射源コレクタ及び製造方法	2018年10月31日
特許 6412163	メトロロジーに用いられる基板及びパターニングデバイス、メトロロジー方法、及びデバイス製造方法	2018年10月24日
特許 6412015	レーザビームパルスのタイミングを調整して極端紫外線光注入を調節する方法	2018年10月24日
特許 6410723	リソグラフィ装置	2018年10月24日
特許 6408720	リソグラフィ装置及びリソグラフィプロセスにおける方法	2018年10月17日
特許 6408578	極端紫外光源	2018年10月17日
特許 6408610	メトロロジターゲットの設計方法、メトロロジターゲットを有する基板、オーバーレイの測定方法、およびデバイス製造方法	2018年10月17日
特許 6409076	パルス光ビームのスペクトル特徴推定	2018年10月17日
特許 6401283	ＥＵＶ光源内でターゲット材料の液滴を制御するためのシステム及び方法	2018年10月10日
特許 6403362	レーザ生成プラズマＥＵＶ光源	2018年10月10日

105 件中 16-30 件を表示

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6420900 6420895 6420864 6420839 6417418 6416129 6412163 6412015 6410723 6408720 6408578 6408610 6409076 6401283 6403362

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