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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 7195411 | 放射システム | 2022年12月23日 | |
特許 7193459 | 極端紫外線源(EUV源) | 2022年12月20日 | |
特許 7193499 | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 | 2022年12月20日 | |
特許 7191954 | パターニングプロセスパラメータを決定する方法および装置 | 2022年12月19日 | |
特許 7191108 | 基板グリッドを決定するための測定装置及び方法 | 2022年12月16日 | |
特許 7186183 | ペリクル及びペリクルアセンブリ | 2022年12月 8日 | |
特許 7186230 | 装置の構成要素から汚染粒子を除去する装置および方法 | 2022年12月 8日 | |
特許 7186258 | 基板ホルダ及び基板ホルダ製造方法 | 2022年12月 8日 | |
特許 7181305 | 信号電子検出性能を向上させたマルチビーム検査装置 | 2022年11月30日 | |
特許 7181317 | 電子ビーム誘起電流に基づくウェーハ検査 | 2022年11月30日 | |
特許 7179839 | 荷電粒子のためのマルチセル検出器 | 2022年11月29日 | |
特許 7179979 | メトトロジ方法、パターニングデバイス、装置及びコンピュータプログラム | 2022年11月29日 | |
特許 7177183 | 装置の動作を説明するパラメータ間の重要な関係の決定 | 2022年11月22日 | |
特許 7175305 | フォトリソグラフィシステムの圧力容器内のシールを保護するための方法及び装置 | 2022年11月18日 | |
特許 7174625 | EUVリソグラフィ用のメンブレンアセンブリを製造する方法、メンブレンアセンブリ、リソグラフィ装置、及びデバイス製造方法 | 2022年11月17日 |
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7195411 7193459 7193499 7191954 7191108 7186183 7186230 7186258 7181305 7181317 7179839 7179979 7177183 7175305 7174625
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